中国科学院上海技术物理研究所， 上海 200083
在高真空中用热蒸发的方法沉积了碲锗铅(Pb1-xGexTe)薄膜。分析了基片表面状态(粗糙度、 晶向、温度)对膜层结构和红外光学特性的影响，发现光滑表面容易得到致密膜层和高红外折射率； 随着沉积温度的增加，膜层的短波吸收边(λc )往长波方向移动。
表面状态 红外薄膜 光学常数(n Pb1-xGexTe Pb1-xGexTe surface status infrared film optical constants (n k) k)
中国科学院上海技术物理研究所, 上海 200083
研究了不同的抛光方法(机械抛光、化学腐蚀及化学机械抛光)对硅基板上沉积的Pb1-xGexTe薄膜性能的影响.研究表明,经化学机械抛光(SiO2胶体或Cr^＋)的硅基板上所沉积的Pb1-xGexTe薄膜具有致密的结构及平直的界面,其沉积速率也比在化学腐蚀抛光表面的沉积速率大7%或18%(分别对应〈111〉和〈100〉晶向);薄膜具有明显高于化学腐蚀抛光基板沉积薄膜的折射率,且折射率随温度的降低而增加,而低温下折射率随波长的增加而增加;化学腐蚀抛光基板沉积薄膜的折射率的增加量明显大于化学机械抛光基板沉积薄膜的增加量;薄膜层经机械抛光后,其膜层结构、组分及其深度分布均未改变,但透射率增加,消光系数有所改善,折射率有所降低.
抛光 Si基板 Pb1-xGexTe薄膜 沉积速率 光学常数 polishing silicon substrate Pb1-xGexTe thin film deposition rate optical constant
