北京理工大学光电学院，“光电成像技术与系统”教育部重点实验室北京 100081
概述了4 种红外焦平面阵列非均匀性过程中使用到的参考源。成为产品前，通常使用面源黑体作为参考源对红外焦平面阵列进行非均匀性校正；在热成像系统应用中动态非均匀性校正中，普遍使用的辐射挡板由于没有连有控温装置，只能进行一点校正，在场景温度偏离校正温度时，校正效果会受到影响；美国第三代前视红外成像系统中使用连有热电制冷器的热电参考源，利用热电制冷器对发射表面进行控温，可实现两点校正算法；为基于边框的SBNUC 校正算法设计的U 型边框黑体光阑，对视场中心没有遮挡，利用半导体制冷器对U 型边框黑体光阑的进行控温，能根据场景信息自适应地实现的两点校正。
非均匀性校正 面源黑体 辐射挡板 热电参考源 U 型边框黑体 non-uniformity correction (NUC) surface blackbody radiation shield thermoelectric thermal reference sources(TTRS) virtual perimeter diaphragm strips
