作者单位
摘要
1 中国原子能科学研究院国防科技工业抗辐照应用技术创新中心北京 102413
2 北京微电子技术研究所北京 100076
基于中国原子能科学研究院钴源建立的器件总剂量辐照装置试验平台,开展了静态随机存储器(SRAM)的总剂量效应研究。分别研究了器件特征工艺尺寸、累积辐照剂量、辐照剂量率以及温度对器件总剂量效应的影响。研究结果表明:在一定范围内剂量率对器件的总剂量效应影响不大,器件特征工艺尺寸越大总剂量效应的影响越大,温度越高总剂量效应影响越弱。此外还测量得到了该总剂量辐照实验平台的典型剂量率分布及均匀性。相关结果为宇航、核工业用电子器件抗辐射加固设计提供了一定的参考。
静态随机存储器 总剂量效应 功耗电流 特征尺寸 Static random access memory Total dose effect Power supply current Feature size 
辐射研究与辐射工艺学报
2023, 41(6): 060703
作者单位
摘要
1 河北冀雅电子有限公司, 河北 石家庄 050071
2 河北工业大学, 天津 300401
简要分析工业用液晶屏功耗电流大小的影响因素, 初步探讨功耗电流对显示的影响, 并提出控制功耗电流的途径。
液晶屏 功耗电流 控制 liquid crystal panel power current control 
现代显示
2012, 23(8): 8
作者单位
摘要
1 中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所,吉林 长春 130033
2 中国科学院 研究生院,北京 100039
为了研究大规模集成电路存储器的总剂量辐射效应,分别对SRAM和ROM两种存储器进行了60Co γ总剂量辐射实验。结果表明,这两种器件是对总剂量辐射效应敏感的器件,失效阈值在10~15 krad(Si)之间。实验还表明,研究SRAM、ROM的总剂量辐射效应,只对数据存取功能进行测试是不完善的,器件的静态功耗电流与动态功耗电流也是总剂量辐射效应的敏感参数,应该作为总剂量辐射效应失效阈值的有效判据。根据器件结构与实验结果,分析了SRAM和ROM器件的损伤机理,认为CMOS SRAM的损伤主要源于辐射产生的界面效应;而浮栅结构ROM的损伤则源于辐射产生的氧化物陷阱电荷与界面陷阱电荷。
静态功耗电流 动态功耗电流 总剂量辐射效应 SRAM SRAM ROM ROM static consumption current dynamic consumption current total dose effect 
光学 精密工程
2009, 17(4): 787

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