采用直流磁控溅射法制备自支撑锆(Zr)膜,采用二步法制备聚酰亚胺(PI)膜, 在Zr膜表面沉积PI膜得到自支撑PI/Zr复合膜。均苯四甲酸酐(PMDA)和二甲基二苯醚(ODA)在二甲基乙酰胺(DMAC)中反应得到聚酰胺酸(PAA), 然后PAA高温亚胺化得到PI;PI成膜时采用提拉法成膜。经国家同步辐射实验室计量线站测定, 实际测量结果与理论分析一致, PI膜的引入虽然会导致自支撑薄膜透过率有所下降, 但在类镍-银软X射线13.9 nm波段PI(200 nm)/Zr(300 nm)和PI(200 nm)/Zr(400 nm)自支撑薄膜的透过率仍然分别达到14.9%和7.5%。
自支撑薄膜 聚酰亚胺 聚酰胺酸 二步法 亚胺化 质量吸收系数 free-standing film polyimide polyamic acid two-step process imidization mass absorption coefficient
同济大学 精密光学工程技术研究所,上海 200092
依据材料的质量吸收系数和波长的关系,选择Cr和Al 设计和制备30.4 nm自支撑滤光片。在制备时以NaCl为脱膜剂,以热蒸发方式蒸镀Al,以电子束蒸发方式蒸镀Cr,制备了30.4 nm的Cr/Al/Cr自支撑滤光膜,并对滤光片的表面缺陷进行了分析。通过显微镜观察,滤光膜均匀纯净,无明显针孔。Cr/Al/Cr自支撑滤光片在合肥国家同步辐射实验室进行了测量,Cr/Al/Cr厚度为5 nm/500 nm/5 nm和12.5 nm/500 nm/12.5 nm的滤光片在30.4 nm波长处的透过率分别为7.6%和4.6%,透过率曲线和理论计算基本一致。用紫外分光光度计测量得滤光片在200～800 nm波长范围的透过率小于0.02%,满足使用要求。
滤光膜 质量吸收系数 自支撑 透过率 缺陷 mass absorption coefficient self-supporting transmittance defect
中国工程物理研究院,流体物理研究所,四川,绵阳,621900
研究了能谱效应的影响,进行了理想的蒙特卡罗(MC)数值闪光照相.在密度提取中使用了3种不同的吸收系数--MC谱光子平均能量对应的单能质量吸收系数、波恩近似公式谱有效质量吸收系数和MC谱有效质量吸收系数.研究结果表明,使用MC谱有效质量吸收系数有效地减小了密度提取中能谱效应的影响.粗略的波恩谱使密度均方根误差小于1.5%,精确的MC谱则获得了均方根误差小于0.5%的理想结果.
闪光照相 能谱效应 密度 质量吸收系数
中国工程物理研究院流体物理研究所,四川绵阳,621900
在30 MeV的射频加速器上进行的原理性实验及在60Co放射源上的定量测量实验已证明了理论推导的CsI:T1晶体对X光响应具有线性的结论.而在实际应用中,由于各种散射因素的影响可能使这种线性关系变坏而给处理带来困难;利用钨台阶在12 MeV LIA的实验环境下完成了CsI:T1晶体对X光响应的研究,对一些散射因素进行了分析,说明在一定的条件下仍然能够获得较好的线性响应,同时对钨在相应条件下的质量吸收系数进行了测量,结果为0.806～0.823,误差约在2.0%以内.
质量吸收系数 CsI:T1晶体 12 MeV LIA CCD
确切知道X射线管激发的原级能谱分布是X射线荧光分析中的一个重要前提,所用能谱分布函数的准确度大大影响了最终的测量结果。提出利用间接测量法,选用合适的参量模型来描述X射线的原级能谱分布。依靠实验测得的厚靶纯元素样品的荧光强度,利用已知的理论公式,建立非线性方程,优化得到参量模型中的参量值。通过比较实验测得的元素的荧光强度值和利用得到的能谱分布函数计算的理论值,证明此种方法是可行的。
X射线光学 X射线荧光分析 质量吸收系数 荧光强度 最小二乘方优化方法
1 中国工程物理研究院,流体物理研究所,四川,绵阳,621900
2 国防科学技术大学,ATR实验室,湖南,长沙,410073
介绍了闪光照相中X光传播规律的等效单能模型.针对闪光照相出光重复性差、能谱测量困难的特点提出了相对质量吸收系数的概念.阐述了闪光照相中相对质量吸收系数的测量原理和方法.在闪光照相实验设备上采用整条D～L曲线对钨材料相对质量吸收系数进行了测量,得到的实验结果为1.23,与数值模拟结果1.26符合较好.
闪光照相 质量吸收系数 底片 相对测量 Flash radiography Mass absorption coefficients Film Relative measurement 强激光与粒子束
2004, 16(12): 1629
