激光与光电子学进展, 2018, 55 (6): 061602, 网络出版: 2018-09-11   

三层氮化硅减反射膜在单晶硅太阳电池中的应用 下载: 1953次

Application of Three-Layer Silicon Nitride Antireflection Coatings in Mono-Crystalline Silicon Solar Cells
作者单位
1 拉萨师范高等专科学校信息技术系, 西藏 拉萨 850000
Information Technology Department, Lhasa Normal College, Lhasa, Tibet 850000, China
2 西安理工大学自动化与信息工程学院, 陕西 西安 710048
School of Automation and Information Engineering, Xi'an University of Technology,Xi'an, Shaanxi 710048, China
3 扬州鑫晶光伏科技有限公司, 江苏 扬州 225653
Yangzhou Xinjing Photovoltaic Technology Co., Ltd., Yangzhou, Jiangsu 225653, China
摘要
对比了具有双层和三层氮化硅减反射膜的单晶硅太阳电池的反射率、内外量子效率、少子寿命及电学特性,模拟了双层和三层氮化硅减反射膜的光学特性,结果表明,三层氮化硅减反射膜具有更好的减反射效果和输出特性。通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺在P型单晶硅上分别制作了双层和三层氮化硅减反射膜,对其减反射效果和钝化效果的分析结果表明,与双层氮化硅减反射膜相比,三层氮化硅减反射膜具有较小的反射率和较好的钝化效果。对具有双层和三层氮化硅减反射膜的单晶硅太阳电池的电学测试结果表明,具有三层氮化硅减反射膜的单晶硅太阳电池的转换效率比具有双层氮化硅减反射膜的单晶硅太阳电池的转换效率有所增大。
Abstract
The reflectivity, internal and external quantum efficiency, minority carrier lifetime and electrical characteristics of mono-crystalline silicon solar cells with double-layer and three-layer silicon nitride antireflection coatings are compared. The optical characteristics of double-layer and three-layer silicon nitride antireflection coatings are simulated. The results show that, the three-layer silicon nitride antireflection coating has a better antireflection effect and a better output characteristic. The double-layer and three-layer silicon nitride antireflection coatings are fabricated on P-type mono-crystalline silicon by the plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) process. The analysis results of their antireflection and passivation effects show that the three-layer silicon nitride antireflection coating has a smaller reflectivity and a better passivation effect compared with the double-layer silicon nitride antireflection coating. The electrical characteristic testing results of the mono-crystalline silicon solar cells with double-layer and three-layer silicon nitride antireflection coatings show that the conversion efficiency of the mono-crystalline silicon solar cells with three-layer silicon nitride antireflection coating is relatively higher than that with double-layer silicon nitride antireflection coating.

1 引言

增加晶硅太阳电池在光谱响应范围内的太阳光的利用率是提高晶硅太阳电池转换效率的重要途径之一[1]。硅棒被切割成硅片时表面存在损伤层,表面织构化只能将硅片反射率减小至10%左右。为能得到更小的表面反射率,可利用光学多次反射和薄膜干涉原理进一步减小硅片表面反射率[2]

氮化硅(SiNX)膜可通过调节流量比来改变折射率,并具有易制作的优越性,因此得到了学者们的广泛关注[3-5]。研究表明,双层SiNX膜对单晶硅和多晶硅太阳电池的减反射及钝化效果有明显影响,且在一定程度上增大了太阳电池转换效率。目前,双层氮化硅减反射膜单晶硅太阳电池已基本实现工业化制作。针对三层减反射膜的相关研究也相继被报道。

杨文华等[6]通过计算机软件对单层、双层和三层减反射薄膜参数进行了理论研究,为多层减反射膜的制备提供了理论依据。陈亮[7]提出了一种太阳能电池表面三层减反钝化膜,这种薄膜先在近电池表面沉积两层不同膜厚和折射率的氮化硅,再在两层氮化硅表面沉积一层二氧化硅,通过这种操作减少了电池片形成组件后的匹配差异。徐飞等[8]通过等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 法研究了三层氮化硅减反射膜和单层氮化硅减反射膜对晶体硅的影响,结果显示,三层氮化硅减反射膜比单层氮化硅减反射膜具有更好的输出特性。孙占峰等[9]从制作工艺角度研究了三层氮化硅减反射膜对多晶硅太阳能电池基本特性的影响。韩菲等[10]对三层氮化硅减反射膜在晶体硅太阳电池中的应用进行了研究,通过将三层氮化硅膜的连续沉积改为间断性沉积,提高了氮化硅膜的致密性,改善了色差问题 。

本文使用PC1D软件模拟了具有双层和三层SiNX减反射膜的太阳电池,对反射率等光学特性进行了理论分析。通过调节PECVD时间和气体流量比,制作出了所需的减反射膜结构太阳电池。最后对具有不同结构减反射膜的太阳电池的减反射作用、钝化效果和电学输出特性进行了测试,并对比分析了双层和三层SiNX膜对太阳电池性能的影响。

2 太阳电池模型参数和实验

2.1 电池模拟参数设置

PC1D软件主要用于光伏电池的计算仿真,具有较完整的半导体器件模型,便于描述半导体器件中电子空穴的传输特性,目前已成为模拟光伏器件的标准软件之一[11]

实验采用PC1D软件对双层和三层SiNX减反射膜进行模拟。设定太阳电池面积为244.3 cm2,电池厚度为180 μm,前后表面制绒深度为4 μm,扩散方阻为90 Ω,少子寿命为23 μs,前后表面复合速率为10000 cm/s。表1为PC1D模拟方案,其中方案A、B、C为双层SiNX减反射膜模拟方案,方案D、E、F为三层SiNX减反射膜模拟方案,d1为减反射膜第一层厚度,d2为减反射膜第二层厚度,d3为减反射膜第三层厚度。n1n2n3为减反射膜对应层的折射率。按表1所示方案通过PC1D软件对具有双层和三层SiNX减反射膜的太阳电池进行模拟。

表 1. PC1D模拟方案

Table 1. Simulation scheme of PC1D

Schemed1 /nmn1d2 /nmn2d3 /nmn3
A602.05152.25
B502.05252.25
C402.05352.25
D552152.252.3
E452252.252.3
F352352.252.3

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2.2 电池制作工艺和实验方案

2.2.1 电池制作工艺

实验选用尺寸为156 mm×156 mm,表面积为244.3 cm2,厚度约为180 μm,电阻率为1~3 Ω·cm的P型单晶硅片。单晶硅片先经过碱制绒、磷扩散形成PN结,再通过湿法刻蚀去掉边沿PN结和表面磷硅酸玻璃(PSG),然后采用PECVD方法在扩散层表面制作双层和三层SiNX膜,最后经过丝网印刷及烧结制作成品电池片。

采用少子寿命测试仪对镀膜前后的半成品电池片进行少子寿命的测试,通过反射率测试仪对反射率进行测试,并采用太阳电池测试仪对太阳电池电学特性进行测试。

2.2.2 实验方案

表2给出了具有双层和三层SiNX减反射膜的单晶硅太阳电池的实验方案。设定双层SiNX膜外层膜NH3、SiH4气体流量比为55∶8,时间为420 s;内层膜NH3、SiH4气体流量比为38∶8,时间为240 s。形成的双层SiNX膜平均膜厚约为75 nm,等效折射率约为2.1。设定三层SiNX膜外层膜NH3、SiH4气体流量比为65∶8,时间为525 s;中间膜NH3、SiH4气体流量比为50∶9,时间为200 s;内层膜NH3、SiH4气体流量比为40∶95,时间为100 s。形成的三层SiNX减反射膜平均膜厚同样约为75 nm、折射率约为2.1。在太阳电池制备过程中,除了PECVD工艺不同外,其余制备工艺均相同。

表 2. 太阳电池实验方案

Table 2. Experimental scheme of solar cell

Type of solar cellsNH3/SiH4Time /s
Outer layerMiddle layerInternal layerOuter layerMiddle layerInternal layer
Withdouble-layer SiNX coating55∶838∶8420240
Withthree-layer SiNX coating65∶850∶940∶95525200100

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3 结果与讨论

3.1 反射率、量子效率及转换效率分析

图1给出了具有不同结构双层和三层SiNX减反射膜的单晶硅太阳电池反射率在300~1200 nm和300~600 nm波长范围内的模拟结果。从图1(a)和图1(b)中可以看出,当波长位于300~600 nm范围时,C方案双层SiNX膜和E方案三层SiNX膜的反射率较小,平均反射率分别为24.41%和22.56%。具有三层SiNX膜的太阳电池的减反射效果明显优于具有双层SiNX膜的太阳电池的减反射效果,具有更好的短波响应。当波长位于600~1200 nm范围内时,具有双层SiNX膜的太阳电池的反射率略小于具有三层SiNX膜的太阳电池的反射率。整体而言,在整个波长响应范围内,具有三层SiNX膜的太阳电池(平均反射率为17.92%)的减反射效果比具有双层SiNX膜的太阳电池(平均反射率为18.18%)的减反射效果好。这是由于三层SiNX膜结构比双层SiNX膜结构的相消干涉效果更好。

图 1. 具有双层和三层SiNX膜的太阳电池的反射率模拟曲线。(a) 300~1200 nm;(b) 300~600 nm

Fig. 1. Simulated reflectivity curves of solar cells with double-layer and three-layer SiNX coatings. (a) 300-1200 nm; (b) 300-600 nm

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外量子效率被定义为入射光谱范围内每一个波长为λ的光波对外电路提供一个电子的几率[11]图2给出了具有不同结构双层和三层SiNX减反射膜的单晶硅太阳电池的外量子效率模拟曲线。可以看出,在300~600 nm波长范围内,具有三层SiNX膜的太阳电池的外量子效率明显大于具有双层SiNX膜的太阳电池的外量子效率。对比各减反射膜结构的外量子效率,C方案双层SiNX膜和E方案三层SiNX膜太阳电池具有更大的外量子效率。当波长位于600~1200 nm范围内时,具有双层和三层SiNX膜的太阳电池的外量子效率几乎一致。就整体效果而言,具有三层SiNX膜的太阳电池的外量子效率大于具有双层SiNX膜的太阳电池的。根据反射率模拟结果可知,减反效果更好的太阳能电池会有更多的入射光子进入电池内部,激发更多的电子空穴对,增大了电池为外电路提供电子的几率,外量子效率更大。由此可见,外量子效率模拟结果与反射率模拟结果一致。

图 2. 具有双层和三层SiNX膜的太阳电池的外量子效率模拟曲线

Fig. 2. Simulated external quantum efficiency curves of solar cells with double-layer and three-layer SiNX coatings

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图3给出了具有不同结构双层和三层SiNX膜的太阳电池的内量子效率模拟曲线。可以看出,具有双层SiNX膜的太阳电池和具有三层SiNX膜的太阳电池的内量子效率无明显变化。这说明在该模拟参数下,在双层SiNX膜的基础上再增加一层SiNX层对单晶硅太阳电池的内量子效率影响不大。

图 3. 具有双层和三层SiNX膜的太阳电池的内量子效率模拟曲线

Fig. 3. Simulated internal quantum efficiency curves of solar cells with double-layer and three-layer SiNX coatings

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图 4. 具有双层和三层SiNX膜的太阳电池的转换效率模拟结果

Fig. 4. Simulated conversion efficiency results of solar cells with double-layer and three-layer SiNX coatings

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图4所示为具有双层和三层SiNX减反射膜的单晶硅太阳电池的转换效率模拟结果。根据反射率和外量子效率模拟结果可知,C方案具有双层SiNX膜的太阳电池和E方案具有三层SiNX膜的太阳电池具有较大的反射率和外量子效率。由转换效率模拟结果可知,B方案双层SiNX膜和E方案三层SiNX膜太阳电池的转换效率较大,分别为19.67%和19.70%,且具有三层SiNX膜的太阳电池的转换效率大于具有双层SiNX膜的太阳电池。在三层SiNX膜的三种方案中,E方案太阳电池具有较大的光电转换效率,与前面分析结果一致,但采用C方案的具有双层SiNX膜的太阳电池的光电转换效率不如采用B方案的具有双层SiNX膜的太阳电池的大。这可能是因为软件模拟存在一定的局限性。反射率和外量子效率的大小主要取决于薄膜结构,而光电转换效率的大小不仅与反射率和外量子效率等光学特性有关,还与薄膜钝化效果、基底材料性能等因素有关。

3.2 反射率测试结果分析

根据3.1节模拟分析结果,通过PECVD法可制作输出特性较好的具有双层SiNX减反射膜的单晶硅太阳电池(B结构)和具有三层SiNX减反射膜的单晶硅太阳电池(E方案)。图5所示为具有双层和三层SiNX膜的太阳电池的反射率测试曲线。可以发现,当波长位于300~600 nm范围内时,具有三层SiNX膜的单晶硅太阳电池的反射率明显小于具有双层SiNX膜的单晶硅太阳电池的;当波长位于600~1200 nm范围内时,两者基本一致,无明显变化。这与反射率模拟结果存在一定的差异。一方面,实际太阳电池表面的减反射膜材料对入射太阳光有部分吸收,这是软件模拟时考虑不到的地方[12];另一方面,通过PECVD法制作减反射膜时,镀膜腔体的温度、压强等分布不均会导致结果存在一定的差异。但就整个光谱响应范围而言,具有三层SiNX膜的太阳电池的减反射效果明显优于具有双层SiNX膜的太阳电池的减反射效果,测试结果与模拟结果一致。反射率越小,减反射效果越好,通过SiNX膜进入到Si体内的光子数越多,激发产生的电子空穴对几率就越大,这有利于增大短路电流,进而增大太阳电池的光电转换效率[13]

图 5. 具有双层和三层SiNX膜的太阳电池的反射率测试曲线

Fig. 5. Reflectivity testing curves of solar cells with double-layer and three-layer SiNX coatings

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3.3 少子寿命测试结果分析

多层减反射膜设计的目的在于使减反射膜结构有更明显的减反射作用和更好的钝化效果。因此,为了进一步说明三层和双层SiNX膜对太阳电池的钝化效果,对镀膜前后半成品电池片的少子寿命进行测试。表3所示为具有双层和三层SiNX膜的太阳电池的少子寿命测试结果。由表3数据可知,双层和三层SiNX镀膜前扩散Si片的平均少子寿命分别为15 μs和16 μs,两者基本一致。镀膜后双层和三层SiNX膜半成品电池片的平均少子寿命分别为22 μs和25 μs,相比镀膜前分别增加了7 μs和9 μs,镀膜后具有三层SiNX膜的太阳电池样品的少子寿命比具有双层SiNX膜的太阳电池样品的大3 μs。由此可知,三层SiNX膜相比双层SiNX膜具有更好的钝化效果。这说明三层SiNX膜经烧结释放出更多的H离子进入Si片的表面及体内,减少了因Si片表面及体内缺陷而形成的复合中心,有助于太阳电池开路电压的增加[14]

表 3. 具有双层和三层SiNX膜的太阳电池的少子寿命测试结果

Table 3. Minority carrier lifetime testing results of solar cells with double-layer and three-layer SiNX coatings(μs)

Type ofsolar cellsBeforecoatingAfter coatingand sintering
Withdouble-layer SiNX coating1522
Withthree-layer SiNX coating1625

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3.4 电学测试结果分析

表4给出了具有双层和三层SiNX减反射的膜太阳电池的电学测试结果。由测试结果可知,相比双层SiNX膜太阳电池,三层SiNX膜太阳电池的开路电压Voc、短路电流Isc和转换效率Eff分别增加了36 mV、67 mA和0.05%,与模拟结果基本一致。由上述分析可知,具有三层SiNX膜的太阳电池良好的性能,这主要归功于三层SiNX膜良好的减反射作用和钝化效果。减反射效果越好,进入Si体内的光子数越多,激发出电子空穴对的几率越大,少数载流子数目越多。钝化效果好可使少数载流子寿命增加,从而增大光电流,减小复合电流,增大开路电压,进而增大太阳电池的光电转换效率[15]。另一方面,相比于双层SiNX膜,三层SiNX膜经烧结从薄膜中释放出了更多的H离子进入到Si体内。烧结前H离子在氮化硅薄膜中主要以Si—H键、H—H键和N—H键的形式存在,烧结后这些键会获得能量挣脱共价键的束缚,形成游离的H离子,在薄膜中留下Si、N离子。这些Si、N离子固定在氮化硅薄膜中而无法移动,导致薄膜中固定电荷密度增大,场钝化效应增强,从而增加少数载流子寿命,增大短路电流、开路电压和太阳电池的光电转换效率[16]。由测试结果还可以看出,具有三层SiNX膜的太阳电池的填充因子FF小于双层SiNX膜太阳电池的。这主要是因为具有三层SiNX膜的太阳电池的串联电阻Rs较大而并联电阻Rsh较小。

表 4. 具有双层和三层SiNX膜的太阳电池的电学特性

Table 4. Electrical characteristics of solar cells with double-layer and three-layer SiNX coatings

Type of solar cellsVoc /VIsc /AFF /%Eff /%RsRsh
With double-layer SiNX coating0.63959.30180.3819.530.0017336.7
With three-layer SiNX coating0.64319.36879.4519.580.0025110.4

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4 结论

分析了双层和三层氮化硅减反射膜对单晶硅太阳电池的影响。通过PC1D软件从理论上分析了具有双层和三层SiNX减反射膜的太阳电池的反射率、内外量子效率及光电转换效率。结果表明,具有三层SiNX膜的太阳电池具有更好的减反射效果。在只改变PECVD工艺的基础上制作了具有双层和三层SiNX膜的太阳电池,并对其反射率、少子寿命和电学特性进行了测试。结果表明,太阳电池反射率、转换效率测试结果与PC1D模拟结果基本吻合,三层SiNX膜的钝化效果优于双层SiNX膜的,具有三层SiNX膜的太阳电池的电学特性优于具有双层SiNX膜的太阳电池的。

参考文献

[1] 王敬蕊, 苏树兵, 诸葛霞. SiNx∶H膜沉积压强和扩散薄层电阻的匹配性研究[J]. 海峡科技与产业, 2016, 3: 81-82.

    Wang J R, Su S B, Zhu G X. Study on matching ability of deposition pressure and diffused sheet resistance for SiNx∶H film[J]. Technology and Industry Across the Straits, 2016, 3: 81-82.

[2] 吕文辉, 何一峰, 龚熠, 等. 双层氮化硅减反、钝化结构对多晶硅太阳电池性能的影响[J]. 半导体光电, 2016, 37(5): 707-711.

    Lü W H, He Y F, Gong Y, et al. Effect of double-layer SiNx antireflection/passivation coating on performance of multi-crystalline silicon solar cells[J]. Semiconductor Optoelectronics, 2016, 37(5): 707-711.

[3] KumarB, Pandian TB, SreekiranE, et al. Benefit of dual layer silicon nitride anti-reflection coating[C]. Photovoltaic Specialists Conference, 2005: 1205- 1208.

[4] HofstetterJ, Canizo CD, Ponce-AlcántaraS, et al. Optimisation of SiNx∶H anti-reflection coatings for silicon solar cells[C]. Spanish Conference on Electron Devices, 2007: 131- 134.

[5] Zoolfakar AS, Syed Othman S R, Abdullan M H, et al. Characterization of silicon and dual layer anti-reflecting coating (ARC) for solar cell applications[J]. International Conference on Information and Multimedia Technology, 2009: 543- 547.

[6] 杨文华, 李红波, 吴鼎祥. 太阳电池减反射膜设计与分析[J]. 上海大学学报(自然科学版), 2004, 10(1): 39-42.

    Yang W H, Li H B, Wu D X. Design and analysis of anti-reflection coating for solar cells[J]. Journal of Shanghai University (Natural Science Edition), 2004, 10(1): 39-42.

[7] 陈亮. 太阳能电池表面三层减反钝化膜: 201010152139[P].2011-01-26.

    Cheng L.Three layeranti-reflection and passivation film on the surface of solar cell: 201010152139[P].2011-01-26.

[8] 徐飞, 陈德爽, 陈肖静, 等. 晶体硅太阳能电池三层减反射膜研究[ C]. 第十二届中国光伏大会暨国际光伏展览会, 2012: 1- 5.

    XuF, Chen DS, Chen XJ, et al. Study on three-layer antireflection coating for crystalline silicon solar cells[ C]. The 12 th China Photovoltaic Conference , 2012: 1- 5.

[9] 孙占峰, 王伟. 三层氮化硅减反射膜的工艺研究[J]. 科技资讯, 2014, 12(19): 4-4.

    Sun Z F, Wang W. Study on processing of three-layer silicon nitride antireflection coatings[J]. Science & Technology Information, 2014, 12(19): 4-4.

[10] 韩菲, 李健. 晶体硅太阳电池沉积三层氮化硅薄膜的探索[J]. 科技风, 2015, 15: 64-65.

    Han F, Li J. Exploration of three layers of silicon nitride film deposited on crystalline silicon solar cell[J]. Technology Wind, 2015, 15: 64-65.

[11] 邹凯, 和江变, 李健, 等. 物理冶金多晶硅太阳电池叠层钝化减反射结构模拟[J]. 电子元件与材料, 2015, 43(6): 28-32.

    Zou K, He J B, Li J, et al. Simulation on stack-layer passivation antireflection structure of metallurgical grade silicon solar cells[J]. Electronic Components & Materials, 2015, 34(6): 28-32.

[12] Ma XJ, LinT, Chen QB, et al. The application of double-layer silicon nitride films on the solar cell anti-reflection coatings[J]. International Journal of Nanomanufacturing, 2013, 9( 3/4): 221- 228. 10.1504/IJNM.2013.05604656b7a03996213e482edcda8cf4127d7dhttp%3A%2F%2Fwww.ingentaconnect.com%2Fcontent%2Find%2Fijnm%2F2013%2F00000009%2FF0020003%2Fart00002http://www.ingentaconnect.com/content/ind/ijnm/2013/00000009/F0020003/art00002Abstract In this paper, reflectance features, external quantum efficiency, and energy conversion efficiency of mono-crystalline silicon solar cells with double-layer silicon nitride (SiN x ) anti-reflection coatings were investigated. The simulated results by the PC1D software showed that the combination in which the bottom SiNx layer had a thickness of 35 nm and refractive index of 2.3, the upper layer had a thickness of 40 nm and refractive index of 1.9 achieved a minimum reflectance. Double-layer SiN x anti-reflection coatings were fabricated by adjusting the ratio of SiH4:NH3 in the PECVD growth. The measurement showed that the double-layer coatings had less reflectance than the single-layer coatings in short wavelength, while they did not show obvious changes in the range of 380 nm to 400 nm for the intensive absorption. Although the combination parameters were not optimum, the energy conversion efficiency of the double-layer SiN x anti-reflection coatings solar cell was improved from 17.88% to 18.03% comparing with the single-layer coatings.

[13] 马新尖, 林涛. 双层SiNx膜对单晶硅太阳电池性能的影响及XPS表征[J]. 激光与光电子学进展, 2015, 52(6): 061608.

    Ma X J, Lin T. Effect of double-layer SiNx film on mono-crystalline silicon solar cells and XPS characterization[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2015, 52(6): 061608.

[14] 马新尖, 林涛, 冯帅臣. 单晶硅太阳电池防电势诱导衰减镀膜工艺分析[J]. 激光与光电子学进展, 2015, 52(4): 041601.

    Ma X J, Lin T, Feng S C. Analysis of mono-crystalline silicon solar cells preventing PID coating process[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2015, 52(4): 041601.

[15] 韩培育, 季静佳, 王振高, 等. PECVD SiO2/SiNx叠层钝化膜的研究[J]. 太阳能学报, 2010, 31(12): 1449-1552.

    Han P Y, Ji J J, Wang Z G, et al. The study of SiO2-SiNx stack-layer passivation films deposited by PECVD[J]. Acta Energiae Solaris Sinica, 2010, 31(12): 1449-1552.

[16] 闻震利, 曹晓宁, 周春兰, 等. 沉积温度对等离子增强化学气相沉积法制备的SiNx∶H薄膜特性的影响[J]. 物理化学学报, 2011, 27(6): 1531-1536.

    Wen Z L, Cao X N, Zhou C L, et al. Influence of deposition temperature on the SiNx∶H film prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition[J]. Acta Physico-Chimica Sinica, 2011, 27(6): 1531-1536.

马新尖, 司志华, 杨东, 林涛, 冯帅臣. 三层氮化硅减反射膜在单晶硅太阳电池中的应用[J]. 激光与光电子学进展, 2018, 55(6): 061602. Xinjian Ma, Zhihua Si, Dong Yang, Tao Lin, Shuaichen Feng. Application of Three-Layer Silicon Nitride Antireflection Coatings in Mono-Crystalline Silicon Solar Cells[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2018, 55(6): 061602.

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