华中科技大学 光学与电子信息学院,湖北 武汉 430074
微米级芯片因其成本低、技术成熟等优势,目前在大规模工业生产中应用广泛。而在制造领域,微米级分辨率的数字光刻投影物镜设计成果则相对较少。本文基于ZEMAX设计了一款具有微米级分辨率的数字光刻微缩投影物镜,对于光刻常用的405 nm的光源,其具有0.625 μm的分辨率,能够完成较为精密的结构加工;将成像的畸变降低到了0.0159%,极大地提高了成像质量;物镜设计放大倍率为-0.0714,物方数值孔径为0.02,能够满足大多数微米级芯片制造。同时设计了一组微透镜阵列用于匀光照明,降低了光照不均匀的影响。经公差分析,有90%的成品MTF>0.7692,满足加工精度要求。
微米级芯片 数字光刻 微透镜阵列 匀光 micron scale chip digital lithography ZEMAX ZEMAX microlens array uniform light
1 中国科学院微电子研究所,北京 100029
2 中国科学院大学,北京 100049
掩模面照明积分不均匀性是影响先进光刻曝光质量的重要因素。在90 nm及以下节点光刻机中,一般要求掩模面照明积分不均匀性小于0.6%。为了补偿掩模面照明不均匀性,提出了一种光刻照明系统匀光补偿元件的设计与优化方法。该方法以照明积分不均匀性和能量损失为评价指标,采用遗传算法设计得到匀光补偿元件。在此基础上综合6种照明模式指标改进适应度函数,提升了匀光补偿元件的适用性。仿真结果表明:当对6种照明模式分别进行优化时,利用所提方法设计得到的6种匀光补偿元件,均可以将照明积分不均匀性校正至0.23%以下;当对6种照明模式同时进行优化时,可以将照明积分不均匀性校正至0.39%以下。所提方法对于光刻照明系统不均匀性的校正具有重要的理论意义和应用价值。
光刻 照明积分不均匀性 遗传算法 匀光补偿元件 中国激光
2025, 52(13): 1301002
1 重庆邮电大学 光电工程学院,重庆 400065
2 中国科学院绿色智能技术研究院 微纳制造与系统集成中心,重庆 400714
3 中国科学院大学重庆学院 智能制造学院,重庆 400714
提出了一种基于连续面型微棱镜阵列结构的激光分束器元件设计及制作方法,该方法利用微棱镜单元对入射光斑的能量进行重新分配,并精确控制子光束的偏转方向,从而生成出射角度及能量分布可控的任意阵列光束。研究了微棱镜阵列分束器的设计原理,建立了微棱镜单元结构参数与光学性能对应的函数关系模型,开发了微棱镜设计算法,并分析了针对不同结构特征的微棱镜阵列及其制作与检测的优选方案。以间隔角度0.15°、能量分布比例为0.365∶0.225∶0.365的1×3微棱镜阵列分束器为例,开展了分束器建模及几何光线追迹仿真,设计出了目标微棱镜阵列结构,并进一步通过光刻刻蚀技术实现了该分束器的精确制作,最后搭建了测试光路开展光学性能测试,通过光斑图像处理算法对分束器光学性能进行表征分析。实验测试结果表明,所设计和制备的微棱镜阵列分束器的能量利用率在91%以上,能量分布误差小于6%,偏转角度误差在0.4%以下,验证了微棱镜分束器原理的可行性。该研究解决了现有分束元件中央亮斑及衍射能量损失难以规避等难题,为远距离、任意能量分布的分束器研制提供了一条可能的有效途径。
光学工程 激光分束器 光刻刻蚀 微棱镜阵列 光线追迹 optical engineering laser splitter photoetching microprism array ray tracing 红外与激光工程
2025, 54(6): 20240557
中国电子科技集团公司第二十六研究所,重庆 400060
随着通信技术的发展,对射频前端滤波器的高频化和小型化需求愈发强烈。横向激励薄膜体声波滤波器(XBAR)是一种适用于高频应用的器件,其中空气隙型XBAR因结构设计而在高频段表现出优异的性能。通过研究空气隙型XBAR的制作工艺与结构特点,研制出空气隙型横向激励薄膜体声波滤波器芯片样品。基于探针测试,该滤波器芯片样品的顶部插入损耗为1.27 dB,通带带宽为808 MHz,通带相对带宽为15.9%。这对研究高频、大带宽薄膜体声波滤波器具有重要的参考意义。
横向激励薄膜体声波滤波器(XBAR) 光刻 刻蚀 横向激励 XBAR photolithography etching lateral excitation
1 苏州大学 光电科学与工程学院 苏州纳米科技协同创新中心,江苏 苏州 215006
2 江苏省先进光学制造技术重点实验室 教育部现代光学技术重点实验室,江苏 苏州 215006
3 上海无线电设备研究所,上海 201109
棱镜光栅是星载甲烷成像光谱仪的重要分光元件,与传统光栅不同的是,棱镜光栅的槽形是将光栅浸没于高折射率介质中,由于光栅槽形嵌入在高折射率介质中,使得光栅的角色散和分辨率都提高了n倍,其中n是高折射率介质的折射率。相比于传统光栅,棱镜光栅在同样的光谱分辨率下可以减小光栅的尺寸,实现更加紧凑的光机结构。因此研制棱镜光栅具有重要的意义。针对甲烷的2.3 μm波段,分析了棱镜光栅的衍射特性,为了进一步提高系统的结构紧凑性,在石英棱镜光栅中引入高折射率材料TiO2介质膜,对于矩形槽形,占空比在0.3~0.45范围内,TiO2膜层厚度在165~170 nm之间,槽深在800~950 nm之间时,光栅的衍射效率高于70%,TiO2膜层厚度为165 nm,槽深在870~930 nm之间时,衍射效率高于80%。采用全息光刻-离子束刻蚀结合原子层沉积技术,制作了周期为1020 nm、光栅有效面积大于110×275 mm的棱镜光栅。实验测量中,为了消除光源波动的影响,采用了双光路测试法进行衍射效率测量,在2.275~2.325 μm波段,一级衍射效率大于70%。
棱镜光栅 全息光刻 离子束刻蚀 衍射效率 prism gratings holographic lithography ion beam etching diffraction efficiency 红外与激光工程
2025, 54(5): 20250081
1 中国科学院微电子研究所,北京 100029
2 中国科学院大学,北京 100049
3 北京超弦存储器研究院,北京 100176
基于角分辨散射套刻测量原理,构建了套刻测量光学特性模型,提出一种不同形状光阑的衍射信号仿真方法,理论分析了环形光阑、宝马标志形光阑和弓形光阑的特性,并对常规叠层标记及多叠层标记在不同光阑条件下的套刻性能参数曲线进行仿真分析。结果表明:对于常规叠层标记,环形光阑与宝马标志形光阑的套刻性能参数曲线变化趋势相似,弓形光阑的套刻性能参数曲线相较于前两者的波动较大;针对多叠层结构的套刻标记,弓形光阑套刻性能参数峰值更高,更益于实现高精度套刻测量。最后,对各光阑的适用场景进行总结,为不同结构套刻标记测量时的最优光阑选择提供理论依据和应用参考。
光刻 套刻 角分辨散射 光阑 标记
1 华中科技大学 武汉光电国家研究中心, 湖北 武汉 430074
2 福州大学 物理与信息工程学院, 福建 福州 350108
3 中国福建光电信息科学与技术创新实验室(闽都创新实验室), 福建 福州 350108
光刻法是一种制备微型发光二极管(Micro-LED)像素化色转换薄膜的可靠方案,但存在量子点与光刻胶兼容性的难题。本文开发了一种通过N-苯基马来酰亚胺(NPMI)侧链改性的丙烯酸树脂制备兼容量子点的光刻胶,侧链基团上CO键能与量子点形成配位键从而钝化表面缺陷,并提高量子点分散性,使光刻胶溶液的量子产率(PLQY)达到76.1%(红色)和43.4%(绿色)。最终制备色转换薄膜时钝化效果仍然存在,绿色和红色的PLQY分别达到了66.4%和36.4%,像素化图形最小尺寸可实现10 μm×10 μm的矩形阵列。本研究中的树脂侧链改性方法为开发兼容量子点的光刻胶提供了指导,为Micro-LED全彩化的商业化应用提供了一种简便且可行的解决方案。
量子点光刻胶 色转换 树脂改性 像素化 quantum dot photoresist color conversion resin modification pixelation
1 中国科学院上海光学精密机械研究所高端光电装备部,上海 201800
2 中国科学院大学材料与光电研究中心,北京 100049
自由光瞳整形模块是28 nm及以下节点光刻机照明系统的标准配置,微透镜阵列是保证光瞳光场稳定和均匀的关键组件。然而,干涉效应限制了微透镜阵列的匀化性能。提出了一种基于微透镜阵列变形设计的消相干方法,在不引入额外元件的情况下提高了光场均匀性。首先优化设计了微透镜阵列的周期尺寸均值,随后引入了周期变化和边界线倾斜的自由度。仿真结果表明,在合适的周期变化和边界线倾斜的优化组合下,光场不均匀性和能量利用率分别达到36.51%和83.90%,满足自由光瞳整形模块的使用需求。
光刻 自由照明 匀化 微透镜阵列 消相干 中国激光
2025, 52(10): 1005001
深圳大学物理与光电工程学院,光电子器件与系统教育部/广东省重点实验室,射频异质异构集成全国重点实验室(深圳大学),广东 深圳 518060
光刻技术凭借其高精度和高质量的加工特性,能够在硅片或其他基材上精确实现复杂的结构,形成微米乃至纳米级别的精细结构。这种能力不仅极大地促进了集成电路集成度的提升,使单个芯片可以容纳更多的晶体管,从而显著增强芯片的计算能力和功能多样性,而且大幅降低了大规模生产的成本,使得高性能电子设备变得更加普及和经济。作为现代微电子工业和半导体制造领域不可或缺的核心工艺,光刻技术应用广泛,涵盖了从消费电子、通信设备到医疗仪器和汽车电子等多个行业。本文围绕光刻技术及其核心材料——光刻胶进行综述,探讨传统光刻技术与各新型光刻技术的发展历程与特点,以及光刻胶的特性与发展趋势,最后对光刻技术的未来进行了展望。
光刻技术 光刻胶 高分辨率 新型材料
吴益泽 1薛栋柏 2,3,4,5,6,7,*肖光旭 2,3,4,5,6,7沈俊宇 2,3,4,5,6,7[ ... ]孔明 1
1 中国计量大学 计量测试与仪器学院,浙江 杭州 310018
2 同济大学 国家集成电路微纳检测设备产业计量测试中心(上海),上海 200092
3 同济大学 精密光学工程技术研究所,上海 200092
4 同济大学 先进微结构材料教育部重点实验室,上海 200092
5 同济大学 数字光学前沿科学研究基地,上海 200092
6 同济大学 全光谱高性能光学薄膜器件与应用专业技术服务平台,上海 200092
7 同济大学 物理科学与工程学院,上海 200092
光栅干涉仪作为一种精密位移测量手段,具备高精度、高分辨力以及强抗干扰能力等优势。光栅作为干涉仪的测量基准,其周期准确性与位移测量结果的精度直接相关。基于原子光刻沉积技术的原子光刻光栅周期直接溯源至铬原子跃迁频率,将其运用于光栅干涉仪的研制,使得测量结果可直接溯源,保障了测量结果的准确性和一致性。然而单次原子光刻制备的光栅面积较小,限制了干涉仪的测量量程。尽管采用拼接原子光刻技术可实现原子光刻光栅面积的延拓,且理论上不引入周期误差,但是拼接区域光栅峰谷高度存在不均匀性,将会影响光栅的衍射效率。文中基于严格耦合波分析理论对拼接原子光刻光栅的衍射特性进行了仿真分析,当光栅峰谷高度从30~85 nm改变时,TE偏振入射光对应衍射效率从0.3%升高至1.9%,TM偏振入射光对应衍射效率随着峰谷高度变化逐步升高,最大值可达36.8%。同步进行了光栅衍射性能的实验测试,结果表明实验测试结果与仿真理论结果的变化趋势一致。该研究为基于拼接原子光刻光栅的直接溯源型光栅干涉仪测量量程扩展提供了技术指导。
拼接原子光刻光栅 峰谷高度 衍射效率 严格耦合波理论 stitched atomic lithography grating peak-to-valley height diffraction efficiency rigorous coupled wave theory 红外与激光工程
2025, 54(3): 20240502