发光学报, 2019, 40 (9): 1130, 网络出版: 2019-09-27
全息光刻制备808 nm腔面光栅半导体激光器
808 nm Cavity Surface Grating Semiconductor Laser by Holographic Lithography
基本信息
DOI: | 10.3788/fgxb20194009.1130 |
中图分类号: | TN248.4 |
栏目: | 器件制备及器件物理 |
项目基金: | 国家自然科学基金(61774025)、 吉林省科技厅项目(20140520139JH,20170520157JH,20152420170414016GH,2015174)资助 |
收稿日期: | 2019-02-13 |
修改稿日期: | 2019-03-22 |
网络出版日期: | 2019-09-27 |
通讯作者: | |
备注: | -- |
王岳, 王勇, 李占国, 尤明慧. 全息光刻制备808 nm腔面光栅半导体激光器[J]. 发光学报, 2019, 40(9): 1130. WANG Yue, WANG Yong, LI Zhan-guo, YOU Ming-hui. 808 nm Cavity Surface Grating Semiconductor Laser by Holographic Lithography[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2019, 40(9): 1130.