光电工程, 2018, 45 (4): 170642, 网络出版: 2018-05-29  

基于变压力的CCOS光学研抛技术

Study on the variable pressure CCOS polishing technology
作者单位
1 四川大学制造科学与工程学院,四川 成都 610065
2 中国科学院光电技术研究所,四川 成都 610209
基本信息
DOI: 10.12086/oee.2018.170642
中图分类号: O436.3
栏目: 科研论文
项目基金: 国家自然科学基金青年基金资助项目(51405313)
收稿日期: 2017-11-22
修改稿日期: 2018-01-25
网络出版日期: 2018-05-29
通讯作者: 叶枫菲 (yefengfei2017@163.com)
备注: --

叶枫菲, 余德平, 万勇建, 刘海涛, 赵洪深. 基于变压力的CCOS光学研抛技术[J]. 光电工程, 2018, 45(4): 170642. Ye Fengfei, Yu Deping, Wan Yongjian, Liu Haitao, Zhao Hongshen. Study on the variable pressure CCOS polishing technology[J]. Opto-Electronic Engineering, 2018, 45(4): 170642.

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!