光学学报, 2005, 25 (4): 567, 网络出版: 2006-05-22
射频磁控反应溅射氮氧化硅薄膜的研究
Study of Silicon Oxynitride Film Deposited by RF Magnetron Sputtering
基本信息
| DOI: | -- |
| 中图分类号: | O484.5; O484.4 |
| 栏目: | 薄膜 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金(69976026)资助课题。 |
| 收稿日期: | 2004-04-09 |
| 修改稿日期: | 2004-04-09 |
| 网络出版日期: | 2006-05-22 |
| 通讯作者: | 朱勇 (yongzhu8@hotmail.com) |
| 备注: | -- |
朱勇, 顾培夫, 沈伟东, 邹桐. 射频磁控反应溅射氮氧化硅薄膜的研究[J]. 光学学报, 2005, 25(4): 567. 朱勇, 顾培夫, 沈伟东, 邹桐. Study of Silicon Oxynitride Film Deposited by RF Magnetron Sputtering[J]. Acta Optica Sinica, 2005, 25(4): 567.
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