光学学报, 2005, 25 (4): 567, 网络出版: 2006-05-22
射频磁控反应溅射氮氧化硅薄膜的研究
Study of Silicon Oxynitride Film Deposited by RF Magnetron Sputtering
薄膜光学 SiOxNy薄膜 磁控溅射 光学常数 禁带宽度 thin film optics silicon oxynitride thin film magnetron sputtering optical constant optical gap width
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