光学学报, 2017, 37 (5): 0505001, 网络出版: 2017-05-05
基于变量分离分解法的极紫外光刻三维掩模快速仿真方法
Fast Simulation Method of Extreme-Ultraviolet Lithography 3D Mask Based on Variable Separation Degration Method
基本信息
| DOI: | 10.3788/aos201737.0505001 |
| 中图分类号: | O436 |
| 栏目: | 衍射与光栅 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金(61474129) |
| 收稿日期: | 2016-11-30 |
| 修改稿日期: | 2017-01-18 |
| 网络出版日期: | 2017-05-05 |
| 通讯作者: | |
| 备注: | -- |
张恒, 李思坤, 王向朝. 基于变量分离分解法的极紫外光刻三维掩模快速仿真方法[J]. 光学学报, 2017, 37(5): 0505001. Zhang Heng, Li Sikun, Wang Xiangzhao. Fast Simulation Method of Extreme-Ultraviolet Lithography 3D Mask Based on Variable Separation Degration Method[J]. Acta Optica Sinica, 2017, 37(5): 0505001.
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