光学学报, 2017, 37 (5): 0505001, 网络出版: 2017-05-05
基于变量分离分解法的极紫外光刻三维掩模快速仿真方法
Fast Simulation Method of Extreme-Ultraviolet Lithography 3D Mask Based on Variable Separation Degration Method
衍射 极紫外光刻 掩模衍射谱仿真 变量分离分解法 接触孔图形 diffraction extreme-ultraviolet lithography mask diffraction spectrum simulation variable separation degration method contact hole pattern
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