光学仪器, 2017, 39 (1): 56, 网络出版: 2017-04-10
反应溅射气体对Ni、Ti薄膜成膜特性的作用机制
The effects of sputtering gas in the characterization of Ni and Ti monolayer films
基本信息
| DOI: | 10.3969/j.issn.1005-5630.2017.01.010 |
| 中图分类号: | O 434.1 |
| 栏目: | 薄膜 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金NSRF联合基金项目(U1430131) |
| 收稿日期: | 2016-08-09 |
| 修改稿日期: | -- |
| 网络出版日期: | 2017-04-10 |
| 通讯作者: | 连玉红 (tjyhlian@126.com) |
| 备注: | -- |
连玉红, 张众, 黄秋实. 反应溅射气体对Ni、Ti薄膜成膜特性的作用机制[J]. 光学仪器, 2017, 39(1): 56. LIAN Yuhong, ZHANG Zhong, HUANG Qiushi. The effects of sputtering gas in the characterization of Ni and Ti monolayer films[J]. Optical Instruments, 2017, 39(1): 56.
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