光学学报, 2018, 38 (7): 0722001, 网络出版: 2018-09-05
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High Precision Correction Method of Illumination Field Uniformity for Photolithography Illumination System
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程伟林, 张方, 林栋梁, 曾爱军, 杨宝喜, 黄惠杰. 光刻机照明光场均匀性高精度校正方法研究[J]. 光学学报, 2018, 38(7): 0722001. Weilin Cheng, Fang Zhang, Dongliang Lin, Aijun Zeng, Baoxi Yang, Huijie Huang. High Precision Correction Method of Illumination Field Uniformity for Photolithography Illumination System[J]. Acta Optica Sinica, 2018, 38(7): 0722001.