光谱学与光谱分析, 2017, 37 (8): 2560, 网络出版: 2017-08-30
等离子体密度对放电等离子体极紫外光源影响研究
Effect of Plasma Density on Discharge Produced Plasma Extreme Ultraviolet Source
基本信息
| DOI: | 10.3964/j.issn.1000-0593(2017)08-2560-04 |
| 中图分类号: | TN23 |
| 栏目: | |
| 项目基金: | 国家自然科学基金项目(61505025), 国家科技重大专项(2008ZX02501-001), 中央高校基本科研业务费专项(2572015BX09)资助 |
| 收稿日期: | 2015-11-24 |
| 修改稿日期: | 2016-03-11 |
| 网络出版日期: | 2017-08-30 |
| 通讯作者: | |
| 备注: | -- |
徐强, 赵永蓬, 王骐, 杨永涛. 等离子体密度对放电等离子体极紫外光源影响研究[J]. 光谱学与光谱分析, 2017, 37(8): 2560. XU Qiang, ZHAO Yong-peng, WANG Qi, YANG Yong-tao. Effect of Plasma Density on Discharge Produced Plasma Extreme Ultraviolet Source[J]. Spectroscopy and Spectral Analysis, 2017, 37(8): 2560.
PDF全文
