光谱学与光谱分析, 2017, 37 (8): 2560, 网络出版: 2017-08-30  

等离子体密度对放电等离子体极紫外光源影响研究

Effect of Plasma Density on Discharge Produced Plasma Extreme Ultraviolet Source
作者单位
1 东北林业大学理学院, 黑龙江 哈尔滨 150040
2 哈尔滨工业大学可调谐激光技术国家级重点实验室, 黑龙江 哈尔滨 150001
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徐强, 赵永蓬, 王骐, 杨永涛. 等离子体密度对放电等离子体极紫外光源影响研究[J]. 光谱学与光谱分析, 2017, 37(8): 2560. XU Qiang, ZHAO Yong-peng, WANG Qi, YANG Yong-tao. Effect of Plasma Density on Discharge Produced Plasma Extreme Ultraviolet Source[J]. Spectroscopy and Spectral Analysis, 2017, 37(8): 2560.

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