SiO<sub>2</sub>材料蒸发特性对膜厚均匀性的影响

王宁; 邵建达; 易葵; 魏朝阳

doi:doi:10.3788/cjl20103708.2051

中国激光, 2010, 37 (8): 2051, 网络出版: 2010-08-13

SiO₂材料蒸发特性对膜厚均匀性的影响

Impact of Evaporation Characteristics of SiO₂ on Uniformity of Thin-Film Thickness

王宁 ^1,2,*邵建达 ¹易葵 ¹魏朝阳 ¹

作者单位

¹ 中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室,上海 201800

² 中国科学院研究生院,北京 100049

引用该论文

王宁, 邵建达, 易葵, 魏朝阳. SiO₂材料蒸发特性对膜厚均匀性的影响[J]. 中国激光, 2010, 37(8): 2051.

Wang Ning, Shao Jianda, Yi Kui, Wei Chaoyang. Impact of Evaporation Characteristics of SiO₂ on Uniformity of Thin-Film Thickness[J]. Chinese Journal of Lasers, 2010, 37(8): 2051.

引用列表

1、电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究激光与光电子学进展, 2021, 58 (5): 0531001

2、 2 μm波段GaSb基亚波长光栅反射镜的设计激光与光电子学进展, 2017, 54 (7): 70501

3、不同沉积温度下单纯蒸镀二氧化硅薄膜的光学特性研究光学学报, 2014, 34 (s2): 231001

4、 2.4 m望远镜铝反射镜介质保护膜的研究中国激光, 2013, 40 (9): 907002

王宁, 邵建达, 易葵, 魏朝阳. SiO₂材料蒸发特性对膜厚均匀性的影响[J]. 中国激光, 2010, 37(8): 2051. Wang Ning, Shao Jianda, Yi Kui, Wei Chaoyang. Impact of Evaporation Characteristics of SiO₂ on Uniformity of Thin-Film Thickness[J]. Chinese Journal of Lasers, 2010, 37(8): 2051.

SiO₂材料蒸发特性对膜厚均匀性的影响

关于本站 Cookie 的使用提示

全站搜索

SiO2材料蒸发特性对膜厚均匀性的影响

相关论文

相关资讯

关于本站 Cookie 的使用提示

全站搜索

SiO₂材料蒸发特性对膜厚均匀性的影响