SiO2材料蒸发特性对膜厚均匀性的影响 | 中国激光 -- 中国光学期刊网

中国激光, 2010, 37 (8): 2051, 网络出版: 2010-08-13

SiO₂材料蒸发特性对膜厚均匀性的影响

Impact of Evaporation Characteristics of SiO₂ on Uniformity of Thin-Film Thickness

王宁 ^1,2,*邵建达 ¹易葵 ¹魏朝阳 ¹

作者单位

¹ 中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室,上海 201800

² 中国科学院研究生院,北京 100049

薄膜光学薄膜制备 SiO₂材料热量分布蒸发特性 thin films production of optic thin film evaporation material of SiO₂ heat distribution evaporation characteristics

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