1 中国科学院 上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室,上海 201800
2 中国科学院 研究生院,北京 100049
膜厚均匀性是评价光学薄膜的重要标准之一。膜厚均匀性不好,膜系特性就会遭到严重破坏。作为用于光学薄膜的主要低折射率材料,SiO2导热性很弱,且以升华的方式进行蒸发,具有特殊的蒸发特性,导致在利用电子束加热蒸发方式镀膜的过程中,膜厚分布会发生明显变化,从而严重影响薄膜质量。为了分析SiO2材料蒸发特性对膜厚均匀性的影响,对电子束焦斑热量分布进行了计算模拟,据此得到蒸发质量的分布。根据蒸发质量分布和蒸发源表面各点蒸发角的变化,计算了蒸发源在空间球面和空间平面上的分布。根据分析结果,总结了SiO2材料蒸发特性对膜厚均匀性产生影响的原因及膜厚分布的特点,为调整和改进SiO2材料镀膜工艺提供参考。
薄膜 光学薄膜制备 SiO2材料 热量分布 蒸发特性
