1 中国科学院 上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室,上海 201800
2 中国科学院 研究生院,北京 100049
膜厚均匀性是评价光学薄膜的重要标准之一。膜厚均匀性不好,膜系特性就会遭到严重破坏。作为用于光学薄膜的主要低折射率材料,SiO2导热性很弱,且以升华的方式进行蒸发,具有特殊的蒸发特性,导致在利用电子束加热蒸发方式镀膜的过程中,膜厚分布会发生明显变化,从而严重影响薄膜质量。为了分析SiO2材料蒸发特性对膜厚均匀性的影响,对电子束焦斑热量分布进行了计算模拟,据此得到蒸发质量的分布。根据蒸发质量分布和蒸发源表面各点蒸发角的变化,计算了蒸发源在空间球面和空间平面上的分布。根据分析结果,总结了SiO2材料蒸发特性对膜厚均匀性产生影响的原因及膜厚分布的特点,为调整和改进SiO2材料镀膜工艺提供参考。
薄膜 光学薄膜制备 SiO2材料 热量分布 蒸发特性
1 海军工程大学兵器工程系,湖北,武汉,430033
2 武汉金石凯激光技术有限公司,湖北,武汉,430074
为了解决膜层层数在一百多层以上的膜系在镀制过程中所必然存在的膜厚均匀性问题,定义了一个与镀膜机的结构参数、工艺参数以及基片几何参数均有关系的均匀性函数.以APS1104镀膜机为实验对象,针对多腔窄带滤光片膜系,根据此函数分析了镀膜机镀制较多层数薄膜时,其膜层厚度沿基片径向的变化规律,确定了影响膜厚均匀性的多种因素,解释了镀制多腔窄带滤光片薄膜成品率低的原因.实验结果证实了分析的正确性.
窄带滤光片 均匀性 APS1104镀膜机 蒸发特性
