中国激光, 2010, 37 (8): 2051, 网络出版: 2010-08-13
SiO2材料蒸发特性对膜厚均匀性的影响
Impact of Evaporation Characteristics of SiO2 on Uniformity of Thin-Film Thickness
基本信息
| DOI: | 10.3788/cjl20103708.2051 |
| 中图分类号: | O439;O484 |
| 栏目: | 材料与薄膜 |
| 项目基金: | -- |
| 收稿日期: | 2009-11-18 |
| 修改稿日期: | 2009-12-16 |
| 网络出版日期: | 2010-08-13 |
| 通讯作者: | 王宁 (shumangy@126.com) |
| 备注: | -- |
王宁, 邵建达, 易葵, 魏朝阳. SiO2材料蒸发特性对膜厚均匀性的影响[J]. 中国激光, 2010, 37(8): 2051. Wang Ning, Shao Jianda, Yi Kui, Wei Chaoyang. Impact of Evaporation Characteristics of SiO2 on Uniformity of Thin-Film Thickness[J]. Chinese Journal of Lasers, 2010, 37(8): 2051.
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