发光学报, 2015, 36 (2): 192, 网络出版: 2015-02-15
预制层溅射气压对CIGS薄膜结构及器件的影响
Influence of Sputtering Pressure on The Structure and Device Properties of CIGS Thin Films
基本信息
| DOI: | 10.3788/fgxb20153602.0192 |
| 中图分类号: | O484.4 |
| 栏目: | 器件制备及器件物理 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金(61076061)资助项目 |
| 收稿日期: | 2014-11-25 |
| 修改稿日期: | 2014-12-16 |
| 网络出版日期: | 2015-02-15 |
| 通讯作者: | 刘玮 (wwl@nankai.edu.cn) |
| 备注: | -- |
李光旻, 刘玮, 林舒平, 李晓东, 周志强, 何青, 张毅, 刘芳芳, 孙云. 预制层溅射气压对CIGS薄膜结构及器件的影响[J]. 发光学报, 2015, 36(2): 192. LI Guang-min, LIU Wei, LIN Shu-ping, LI Xiao-dong, ZHOU Zhi-qiang, HE Qing, ZHANG Yi, LIU Fang-fang, SUN Yun. Influence of Sputtering Pressure on The Structure and Device Properties of CIGS Thin Films[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2015, 36(2): 192.
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