预制层溅射气压对CIGS薄膜结构及器件的影响

李光旻; 刘玮; 林舒平; 李晓东; 周志强; 何青; 张毅; 刘芳芳; 孙云

doi:doi:10.3788/fgxb20153602.0192

发光学报, 2015, 36 (2): 192, 网络出版: 2015-02-15

预制层溅射气压对CIGS薄膜结构及器件的影响

Influence of Sputtering Pressure on The Structure and Device Properties of CIGS Thin Films

李光旻 ^1,2刘玮 ^1,*林舒平 ¹李晓东 ¹周志强 ¹何青 ¹张毅 ¹刘芳芳 ¹孙云 ¹

作者单位

¹ 南开大学电子信息与光学工程学院光电子薄膜与器件研究所, 天津 300071

² 天津城建大学理学院应用物理系, 天津 300084

补充材料

李光旻, 刘玮, 林舒平, 李晓东, 周志强, 何青, 张毅, 刘芳芳, 孙云. 预制层溅射气压对CIGS薄膜结构及器件的影响[J]. 发光学报, 2015, 36(2): 192. LI Guang-min, LIU Wei, LIN Shu-ping, LI Xiao-dong, ZHOU Zhi-qiang, HE Qing, ZHANG Yi, LIU Fang-fang, SUN Yun. Influence of Sputtering Pressure on The Structure and Device Properties of CIGS Thin Films[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2015, 36(2): 192.