采用等离子体增强化学气相沉积类金刚石(DLC)薄膜、高真空磁控溅射镀膜设备溅射Ag靶的方法制备了不同厚度Ag、DLC层的DLC/Ag/DLC多层膜,分别用紫外可见分光光度计、四探针测试仪对样品的光学性能、电学性能进行了测试。结果表明,随着Ag层厚度的增加,DLC/Ag/DLC多层膜透射率先增后减,外层DLC薄膜和内层DLC薄膜对透射率影响基本一致,随着厚度增加透射率先增后减,在内外层厚度为40 nm,Ag夹层厚度为16 nm时,DLC(30 nm)/Ag(16 nm)/DLC(40 nm)膜在550 nm处的透射率高达94.4%,电气指数高达112.4×10-3 Ω-1,远远超过现有透明导电膜的电气指数(FTC≈20×10-3 Ω-1)。

研究氟化类金刚石(FDLC)薄膜化学结构对光学性能的影响，用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法在玻璃基底上沉积氟化类金刚石(FDLC)薄膜，用俄歇能谱、傅里叶红外光谱(FTIR)、紫外－可见光分光光度计(UV－VIS)对薄膜进行分析。分析结果表明：沉积薄膜是典型的类金刚石结构，薄膜中氟主要以C－F₂键存在；随着沉积温度的提高，C－F₂含量先增后减；随着F含量的增加，FDLC薄膜的sp³含量减少，sp²含量增加；光学带隙与sp²键含量密切相关，sp²含量越大，薄膜的光学带隙越小。