赵亚丽 1,2李旭峰 3贾琨 1马江将 1,2[ ... ]魏学红 2,*
作者单位
摘要
1 中国电子科技集团公司第三十三研究所电磁防护材料及技术山西省重点实验室,山西 太原 030006
2 山西大学化学化工学院,山西 太原 030006
3 太原科技大学应用科学学院,山西 太原 030024
本文描述了由不同厚度的ITO 和Ag 层制成的一维金属介质光子带隙材料1D M-D PBG 的光学透射和反射特性。研究发现,单元尺寸小于80 nm 的金属结构和较小的金属分数会导致光学透射率的提高。对于大于80 nm 的单元尺寸,在可见光的低频和高频的频谱范围内反射率都相应增强。这是由于一种特殊结构和等离子体的带隙的作用。此外,在两个范围内的反射随着增加银膜厚度的增加而提高和扩大。结构引起的反射光谱随着单位尺寸的增大而增大,并且由于等离子体光子带隙的反射超出光学范围。研究结果对1D M-D PBG 光学滤波器的设计有一定的参考价值。
金属光子晶体 光学透射率 光学反射 metal photo crystals optical transmittance optical reflection 
光电工程
2018, 45(11): 180239
作者单位
摘要
西安电子科技大学微电子学院, 陕西 西安 710064
使用微波回旋共振离子源,研究了低能Ar+束在不同入射角度下对旋转单晶硅(100)表面的刻蚀效果及其光学性能。结果表明:样品旋转、离子束能量为1000 eV、束流密度为265 μA/cm2、刻蚀时间为60 min时,在不同入射角度下,刻蚀后的样品表面可形成均匀的自组装点状结构。入射角度为0°~25°时,随着角度增加,样品表面粗糙度增大,点状结构有序性更强,光学透射率提高;继续增加入射角度,样品表面粗糙度及点状结构尺寸开始减小,光学透射率降低;增加入射角度到45°时,自组装点状结构消失,粗糙度和平均光学透射率达到最小值分别为0.83 nm和55.05%;进一步增加入射角度,样品表面再次出现自组织装点状结构,表面粗糙度急剧增大,入射角度在65°时,平均光学透射率达到极大值64.59%;此后,随着离子束入射角度的增加,表面粗糙度缓慢减小,光学透射率降低。自组织结构变化是溅射粗糙化和表面弛豫机制相互作用的结果。
表面光学 微纳米制造技术 自组织纳米结构 低能离子束刻蚀 表面形貌 光学透射率 
光学学报
2013, 33(9): 0922003
作者单位
摘要
1 上海摩根碳制品有限公司, 上海 200241
2 中南大学 物理科学与技术学院, 湖南 长沙 410083
采用等离子体增强化学气相沉积类金刚石(DLC)薄膜、高真空磁控溅射镀膜设备溅射Ag靶的方法制备了不同厚度Ag、DLC层的DLC/Ag/DLC多层膜,分别用紫外可见分光光度计、四探针测试仪对样品的光学性能、电学性能进行了测试。结果表明,随着Ag层厚度的增加,DLC/Ag/DLC多层膜透射率先增后减,外层DLC薄膜和内层DLC薄膜对透射率影响基本一致,随着厚度增加透射率先增后减,在内外层厚度为40 nm,Ag夹层厚度为16 nm时,DLC(30 nm)/Ag(16 nm)/DLC(40 nm)膜在550 nm处的透射率高达94.4%,电气指数高达112.4×10-3 Ω-1,远远超过现有透明导电膜的电气指数(FTC≈20×10-3 Ω-1)。
薄膜光学 光学性能 多层膜 光学透射率 电气指数 磁控溅射 
光学学报
2008, 28(10): 2031
作者单位
摘要
1 北京大学电子学系, 北京 100871
2 北京大学物理系介观物理国家重点实验室, 北京 100871
用泵浦-探测技术测量了金属-介质复合薄膜Cu-Ba-O的光学透射率在超短激光脉冲作用下随延迟时间的瞬态变化曲线,获得了薄膜对光的透射率迅速减小并在皮秒时间内恢复原状的实验结果。该现象是由薄膜中金属超微粒子内费米能级附近电子被飞秒激光脉冲激发所产生的非平衡态电子经历瞬态弛豫造成的。本文从理论上给出了薄膜中Cu超微粒子的电子声子相互作用常数g的修正数值。
光学透射率 超短激光脉冲 薄膜 
光学学报
1998, 18(8): 1102

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