多孔薄膜的制备工艺是其实现光学特性的重要环节。采用溶胶-凝胶法，以石英玻璃为基底，在不同工艺条件下制备出了多孔TiO₂薄膜，并通过椭偏仪、分光光度计和白光干涉仪对薄膜光学性能进行了表征和分析，研究了原料配比、盐酸浓度、致孔剂聚乙二醇（polyethylene glycol，PEG）添加量等工艺参数对多孔TiO₂薄膜折射率、孔隙率、透射率以及表面形貌的影响，并最终确定出制备多孔TiO₂薄膜的优化工艺参数。结果表明，在300 nm~700 nm光谱范围内，采用钛酸丁酯、盐酸（20%）、去离子水和无水乙醇以3∶1∶10∶8的比例，且溶液中PEG添加量为0.03 g·ml^?1，涂膜2次时，可将TiO₂薄膜的折射率调低为1.496 0（波长550 nm）；膜层孔穴分布较均匀，孔隙率为48.3%；薄膜光学带隙值为3.77 eV。

采用溶胶凝胶技术结合旋涂法，在石英基底及Si基底上分别制备了孔隙率不同的TiO₂和SiO₂薄膜，并对两者的光学及激光损伤特性进行了研究。根据透射光谱曲线计算出薄膜的光学带隙，发现光学带隙随着孔隙率的增大而增大，TiO₂薄膜的光学带隙大小为3.75 eV～3.97 eV，SiO₂薄膜的光学带隙大小为3.52 eV～3.78 eV。椭偏测量结果表明，当聚乙二醇（polyethylene glycol, PEG）质量分数从0、0.8%、4.0%提高至8.0%时，在波长1 064 nm处，TiO₂薄膜的孔隙率从11.5%、14.1%、30.9%增大至38.7%，折射率从2.063 5、2.016 5、1.748 1降低至1.640 9；SiO₂薄膜的孔隙率从4.04%、4.6%、5.7%提升至13.9%，折射率从1.438 6、1.435 8、1.420 4降低至1.387 9。除PEG质量分数为0.8%的TiO₂薄膜外，所有TiO₂和SiO₂薄膜样品的消光系数均优于10^?3，说明薄膜的吸收较小。薄膜的激光损伤阈值（laser induced damage threshold, LIDT）受孔隙率的影响较大，孔隙率越大，TiO₂薄膜的激光损伤阈值越高，其值最高可达16.7 J/cm²；而SiO₂薄膜的激光损伤阈值较未添加PEG的激光损伤阈值并未提高，当PEG质量分数从0.8%增加到8.0%时，SiO₂薄膜的激光损伤阈值提高了1.9 J/cm²。总而言之，提高孔隙率有助于提高薄膜的抗激光损伤性能。

近年来，随着大功率、高能量激光系统的不断发展，光学薄膜的抗激光能力成为制约激光系统高质量发展的瓶颈之一。基于不同的制备方法及工艺参数会对薄膜的损伤阈值产生重要的影响，就薄膜镀制前、镀制中以及镀制后三个方面对提高损伤阈值的方法进行综述，其中包括膜料优选、膜系设计、溶剂清洗、离子束清理、制备方法、离子束后处理、激光后处理等内容。

针对红外目标跟踪中红外图像模糊、存在噪声、目标特征少的问题，提出了自适应信息选择的变尺度相关滤波红外目标跟踪算法。首先，在提取的灰度特征中重新提取了梯度信息，用于增强特征感受野大小，丰富目标特征信息；其次，稀疏滤波器系数，减少滤波器信息冗余，并将其结合至滤波器训练过程中，不同通道下的空间信息保留程度不同，有效提高滤波器表达能力；最后，在原有保留尺度更新的基础上，加入变尺度滤波器，构建边界框比例不同的尺度池，有效应对边界框比例变化的情况。在LSOTB-TIR数据集和PTB-TIR数据集上做了对比和消融实验以验证算法的有效性，结果表明该算法在LSOTB-TIR数据集上精确度和成功率分别达到71.3%和59.4%，在使用手工特征的算法中获得了更好的表现。

利用光刻掩模和热蒸发沉积技术制备兼容电磁屏蔽红外窗口薄膜器件，实现3~5 μm波段红外信号高效增透，且能屏蔽12~18 GHz频段的电磁波信号.通过光刻掩模和真空热蒸发沉积技术在双面抛光Si基底上制备满足要求的十字交叉对称金属网栅结构，通过离子束辅助电子束热蒸发沉积技术制备3~5 μm波段高效增透的红外膜.为进一步改善金属网栅的透射率，在周期g为550 μm，不同线宽的金属网栅薄膜上沉积红外增透膜.结果表明：通过真空式傅里叶变换红外光谱仪测试得红外膜样片在3~5 μm的峰值透射率为99.8%，平均透射率为99.3%.矢量网络分析仪测试金属网栅12~18 GHz频段的电磁屏蔽效能，得到兼容电磁屏蔽红外窗口薄膜器件在12~18 GHz频段内总体电磁屏蔽效能优于27 dB，3~5 μm红外波段的峰值透射率为86.3%，平均透射率为86.1%.金属网栅薄膜上镀制增透膜在保证电磁屏蔽效能不变（≥27 dB）的前提下，网栅光谱（透射率）提高了37.6%（网栅周期g为550 μm，线宽2a为30 μm）.屏蔽效能的改善既可以通过调整网栅的周期和线宽，也可以选择电阻率较低的基底材料实现.

以SiO₂、TiO₂、YF₃为单组分材料分别制备了SiO₂/YF₃、TiO₂/YF₃复合薄膜，探究复合后膜层的光学、力学以及抗激光损伤性能的变化情况.采用双源共蒸技术，通过控制膜料蒸发时的沉积速率制备了混合摩尔比为1：1的两种氟氧化物复合薄膜，对复合膜层的折射率、消光系数、透射特性、表面形貌、粗糙度进行了测量，并研究了其抗激光损伤性能.结果表明：SiO₂/YF₃、TiO₂/YF₃复合膜层的折射率分别为1.478 7和1.864 6（波长550 nm），介于单组分材料之间（YF₃为1.493 6、SiO₂为1.465 1、TiO₂为2.048 3），且均呈现正常色散分布；ZYGO干涉测量的结果显示，SiO₂/YF₃膜层的应力值为1.9 GPa，比单组分材料SiO₂和YF₃的0.4 GPa大但粗糙度小；TiO₂/YF₃膜层的应力值为0.8 GPa，比TiO₂的3.9 GPa应力小但较YF₃大，表现出较明显的应力调节效果；SiO₂/YF₃复合薄膜的激光损伤阈值为9.2 J/cm²，相比于单组分的SiO₂提高了2.2%，较YF₃提高了39.2%；TiO₂/YF₃的激光损伤阈值为7.8 J/cm²，相比于单组分的TiO₂薄膜而言提高了85.6%，较YF₃提高了17.4%.通过双源共蒸技术沉积得到的氟氧化物复合薄膜，吸收小、膜层折射率可调；SiO₂/YF₃、TiO₂/YF₃复合膜层的抗激光损伤性能均优于单组分材料；YF₃的掺杂能够明显降低单一TiO₂材料的应力，但SiO₂/YF₃的应力大于单组分的SiO₂、YF₃薄膜.

The plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technique is well suited for fabricating optical filters with continuously variable refractive index profiles; however, it is not clear how the optical and structural properties of thin films differ when deposited on different substrates. Herein, silicon nitride films were deposited on silicon, fused silica, and glass substrates by PECVD, using silane and ammonia, to investigate the effects of the substrate used on the optical properties and structures of the films. All of the deposited films were amorphous. Further, the types and amounts of Si-centered tetrahedral Si–Si_vN_4-v bonds formed were based upon the substrates used; Si–N₄ bonds with higher elemental nitrogen content were formed on Si substrates, which lead to obtaining higher refractive indices, and the Si–SiN₃ bonds were mainly formed on glass and fused silica substrates. The refractive indices of the films formed on the different substrates had a maximum difference of 0.05 (at 550 nm), the refractive index of SiN_x films formed on silicon substrates was 1.83, and the refractive indices of films formed on glass were very close to those formed on fused silica. The deposition rates of these SiN_x films are similar, and the extinction coefficients of all the films were lower than 10^?4.

复合薄膜因其可具有比单组份薄膜更加优异的性能而得到广泛的应用。通过以膜层的防护、催化、电学、光学以及力学性能等复合思想为切入点，阐述了通过膜层的复合掺杂旨在增强合金的抗腐蚀性，提高润滑摩擦性能，改善膜层的导电性能以及进行光学薄膜折射率和光谱吸收的调控，增强膜层的硬度及拉伸强度等机械性能的方法。对国内外的相关前沿成果进行简要介绍，并对复合薄膜的未来发展进行展望，为相关领域的研究提供参考。