1 内蒙古科技大学化学与化工学院, 内蒙古 包头014010
2 北京科技大学冶金与生态工程学院, 北京100083
3 中国科学技术大学国家同步辐射实验室, 安徽 合肥230029
4 西南科技大学材料科学与工程学院, 四川 绵阳621000
采用高温固相法制备了一系列Gd2Ba3B3O12∶Tb3+绿色荧光粉, 借助X射线粉末衍射仪(XRD)、 真空紫外光谱和荧光光谱仪(VUV-UV)对样品的物相、 发光性能进行了表征。 结果表明, Tb3+作为发光中心全部进入到基质Gd2Ba3B3O12的晶格中并占据Gd3+的位置。 样品Gd2Ba3B3O12∶Tb3+的VUV-UV激发光谱主要由160～200 nm和200～250 nm的宽峰以及260～280 nm和300～320 nm的锐利峰组成。 宽峰是由于基质吸收和Tb3+的f—d的跃迁形成的, 锐利峰是由于Tb3+和Gd3+的f—f特征跃迁形成。 样品Gd2Ba3B3O12∶ Tb3+的最强发射峰位于543 nm, 对应于Tb3+的5D4→7F5跃迁。 在172 nm激发下, 样品Gd1.85Tb0.15Ba3B3O12的发光强度最强, 其色坐标为(0.313 6, 0.484 3), 衰减时间为2.98 ms, 可作为绿色荧光粉应用于等离子体显示器(PDP)领域。
绿色荧光粉 Green emitting phosphor VUV-UV VUV-UV Gd2Ba3B3O12∶Tb3+ Gd2Ba3B3O12∶Tb3+ PDP PDP
西南科技大学 四川省非金属复合与功能材料重点实验室－省部共建国家重点实验室培育基地, 四川 绵阳 621010
采用脉冲电镀工艺, 以直径为1 mm的铜丝为芯轴, 在无氰镀液体系中, 制备出惯性约束聚变实验用铋靶所需的金属铋镀层。通过正交试验得到的最佳脉冲工艺条件为: 电流密度5 A/cm2, 频率600 Hz, 占空比1∶6, 温度20 ℃。利用扫描探针显微镜和扫描电子显微镜分别对铋镀层表面形貌进行分析, 同时利用X射线衍射对铋镀层物相成分进行分析。表征结果表明: 所得铋镀层表面细致均匀, 孔隙率低, 平整性好, 无裂纹。
铋靶 脉冲电镀 无氰镀液 乙二胺四乙酸盐 表面形貌 bismuth target pulse electroplating non-cyanide plating solution versenate surface topography
1 西南科技大学 材料科学与工程学院,四川 绵阳 621010
2 中国工程物理研究院 科技信息中心,四川 绵阳 621900
在300,700和1 000 ℃温度下,对化学镀Ni-P合金涂层后的磁性ICF玻璃靶丸进行热处理,通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和振动样品磁强计(VSM)对热处理后化学镀ICF玻璃靶丸的结构、形貌和磁性能进行了表征。结果表明:化学镀ICF玻璃靶丸经过热处理后,Ni-P涂层晶化为晶态合金层,涂层的组成颗粒直径和磁性能随着热处理温度的升高而不断增加,可望用于磁悬浮实验研究。
惯性约束聚变 玻璃靶丸 化学镀 磁性涂层 热处理 晶态合金层 ICF glass target electroless plating magnetic plating thermal treatment crystalline plating
西南科技大学,材料科学与工程学院,四川,绵阳,621010
采用化学镀方法对ICF空心玻璃微球靶丸进行处理,使其表面均匀包覆一层磁性Ni-P合金镀层,从而使得ICF玻璃靶丸具有一定的磁性,可望用于进行磁悬浮ICF定位打靶实验研究.用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和振动样品磁强计对涂层的组成、结构、形貌及磁性能进行了表征.结果表明:对 ICF玻璃靶丸进行化学镀处理,其球形度、同心度和壁厚均匀性都与化学镀前未发生明显改变,其饱和磁化强度和矫顽力分别为3.883×10-3 A/g和1.046×10-3 T.
ICF玻璃靶丸 化学镀 磁性涂层 磁悬浮 强激光与粒子束
2007, 19(10): 1659
