1 中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所, 吉林 长春 130033
2 中国科学院大学, 北京 100049
3 中国人民解放军63861 部队, 吉林 白城 137001
4 中国科学院 西安光学精密机械研究所, 陕西 西安 710119
介绍了一种静电场辅助的新型微压印光刻技术, 并对其工艺过程进行了深入的理论研究。首先, 采用数值仿真软件COMSOLTM Multiphysics, 建立了静电场辅助的压印光刻瞬态仿真分析模型, 讨论了不同时域微结构的演化过程。然后, 详细分析了微结构的成型与仿真实验参数的定性关系, 发现: 适当地减小极板间距、模板凸起结构周期, 同时增加模板的凸起高度、初始聚合物薄膜厚度和电压有助于微纳结构的成型。最后, 通过仿真实验参数优化, 得到了带有31 μm中空结构的球冠微结构。与传统压印方法相比, 静电场辅助的微压印技术工艺过程简单且成本较低, 能够广泛应用于微电子机械系统、光子学、遗传学和组织系统等。
静电场 压印 微纳结构 两相流 electrostatic field imprint micro-nanostructures two-phase flow
