1 上海师范大学 光电材料与器件重点实验室，上海 200234
2 中国科学院上海技术物理研究所 红外物理国家重点实验室，上海 200083
3 青岛大学 物理科学学院，山东 青岛 266071
采用磁控溅射法，选用LaNi O3作为缓冲层，在硅基片上制备出了0.74Pb(Mg1/3 Nb2/3) O3-0.26PbTiO3弛豫铁电薄膜.研究了沉积温度对薄膜的微结构和光学性能的影响.其中，沉积温度为500 oC时制备的薄膜，不仅具有纯的钙钛矿结构，高度(110)择优取向、致密、无裂纹的形貌、而且具有最大的剩余极化，大小为17.2 μC/cm2.使用柯西模型进行拟合反射谱，分析得到薄膜的折射率和消光系数.在波长为633 nm时，500 oC沉积的薄膜的折射率大小为2.41.另外，薄膜的光学带隙在2.97～3.22 eV范围内.并初步讨论了这些薄膜的光学性能的差异.
PMN-0.26PT铁电薄膜 折射率 消光系数 PMN-0.26PT ferroelectric thin films refractive indices extinction coefficients
