对As2和As4两种不同分子态下利用分子束外延技术(MBE)生长的单层AlGaAs薄膜和GaAs基InGaAs/AlGaAs量子阱红外探测器（QWIP）的性能进行了研究, 发现As2条件下生长的单层AlGaAs材料荧光强度更大、深能级缺陷密度更低; 相对于As4较为复杂的吸附、生长机制引入的缺陷, 在As2条件下生长的InGaAs/AlGaAs QWIP具有更低的暗电流密度、更好的黑体响应、更高的比探测率和更优异的器件均匀性。生长制备的InGaAs/AlGaAs QWIP在60K的工作温度、-2V偏压下, 暗电流密度低至7.8nA/cm2, 光谱响应峰值波长为3.59μm, 4V偏压下峰值探测率达到1.7×1011cm·Hz1/2·W-1。另外, 通过As元素的不同分子态下InGaAs/AlGaAs QWIP光响应谱峰位的移动可以推断出As元素的不同分子态也会影响In的并入速率。