薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)成盒配向膜涂覆工艺中, 配向膜的厚度、均一性和涂覆膜面质量直接影响液晶显示器的显示效果, 为此本文研究了喷墨涂覆工艺对配向膜质量的影响。首先优化喷墨涂覆工艺, 分析了喷吐频率对喷吐量及其均一性有显著影响。其次分析了负压、涂覆速度、配向膜溶液固含量、涂覆密度等条件对配向膜膜面质量的影响。实验表明当喷吐频率为1 000~8 000 Hz时, 喷吐量均一性满足要求; 当吐出频率达到10 000 Hz时, 喷吐量严重不均一, 不满足生产需求。得出喷涂频率、吐出量、负压、涂覆速度、配向膜溶液固含量、涂覆密度的优化条件分别为: 3 000~5 000 Hz、50~70 pL、中心值±100 Pa、500~600 mm/s、 (3.9 ±0.4)%、50%~50.3%。降低配向膜溶液固含量可改善涂覆性不均缺陷, 改变吐出密度可改善涂覆性不均缺陷, 画质质量得到提升。本文对成盒工段配向膜涂覆质量优化取得了良好效果, 能满足工程实践量产的需要。

液晶光学器件在激光聚变、光电对抗、激光雷达、激光通信等领域的应用面临着近红外高功率激光辐照失效的风险。在介绍液晶光学器件基本结构和基本工作原理的基础上,按照液晶光学器件的组成,依次对构成液晶光学器件的导电膜、取向膜、液晶材料,以及整体液晶光学器件在近红外激光辐照下的损伤特性及机制的研究进展进行了综述。

目前, TFT-LCD行业已经趋于成熟。各大面板厂都在提升自身产品的竞争力：高分辨率、高色域、轻质化、窄边框化以及高对比度等等。配向膜作为LCD面板的主要构成起着重要的取向作用, 其印刷的质量对产品良率起很大影响。喷墨打印作为大世代线配向膜印刷方法被越来越广泛的应用, 但是其带来的印刷性不良也多种多样。本文重点介绍了阵列基板的设计对配向膜的影响。通过实验验证得出, 阵列基板深孔设计对配向膜扩散起到了阻碍扩散的不良影响。从此结论出发, 从配向膜印刷工艺和设计提出改善方案并取得了改善效果。

为了实现TFT LCD高PPI产品的高分辨率，高开口率，低功耗全面提升，分析了不同因素的影响程度，加强了对取向膜印刷品质的管控。同时对涉及该过程相关因素进行研究分析。对取向膜画面品质相关的产线印刷和干燥条件、APR版制作工艺、取向膜膜厚变化、APR版线数开口率进行优化测试，找到了可以提高取向膜画面品质的方法。实验结果表明: 通过对取向膜印刷和干燥条件优化，确定了TN产品画面品质提升的产线管控方案; 在APR版制作过程中引用扩散保护膜，ADS产品Particle类不良降低2%，Scratch类不良降低1%; 对取向膜膜厚提升，ADS产品的段差和残像得到改善，对比度提升30~120，Zara Particle不良降低30%; 通过对APR版的网点，开口率优化: 400L，30%，普通曝光的APR版更新为600L，20%，高PPI有机膜类产品的Sand Mura发生率降低为0%。可以满足高PPI产品对取向膜印刷稳定的管控要求，适应高分辨率、高开口率、低功耗等要求。

目前,LCD行业已经趋于成熟.各大面板企业都在提升自身产品的竞争力:高分辨率、高色域、轻质化、窄边框化以及高对比度等等.本文从聚酰亚胺取向层材料方面着手提高对比度进行了研究与阐述.研究过程中利用实验室与产线进行了实际测试,通过对比不同性质的取向膜材料所制作的平面电场宽视角(ADS)模式液晶面板,证明了配向能力越高的取向材料得到的面板对比度越高.高配向力的取向层可以使液晶分子的排列更加有序化,在常暗模式的FFS显示器中,初始位置的液晶分子预倾角越低,液晶面板的暗态越好,在亮态相同的情况下,对比度将会提高.

薄膜晶体管行液晶显示(TFTLCD)面板制造行业中，取向膜涂布方式主要有2种:一种为传统印刷方式辊式涂布法，另一种为新型印刷方式喷墨印刷法。本文通过对这2种印刷方式的比较，着重介绍了新型喷墨印刷法容易产生的三大主要不良(直线形不良、印刷头宽线形不良以及云状灰度不良)及产生原因。在对三大不良产生的原因进行详细的实验测试、数据分析和理论研究工作下, 通过工艺调整并结合设备科学管控， 最终使不良发生率大幅下降，极大地提高了产品的品质，并为今后新产品的开发及相关理论的研究提供了很好的基础。

残像是TFT-LCD的一种显示特性，主要表现为当液晶显示器长时间显示同一个画面，在把画面切换到下一个画面时，原先的画面会残留在下一个画面中。本文的加强篇二从材料面的彩膜、液晶、配向膜及工艺面的配向膜工程、ODF工程导致的残像具体分析了其原因和改善方法。