本文重点研究了降解型光控取向技术的制作工艺及其对产品性能的影响。通过分析不同光配向工艺参数下配向膜各向异性的数值可知，随着UV光光积量的增大和二次固化时间的延长，配向膜的各向异性值都有先升高后降低的趋势。测试材料在550 mJ/cm2和30 min的条件下，配向能力最优；配向膜材料二次固化温度在250 ℃以内时对配向性的影响是随温度升高，配向膜的各向异性值有直线上升趋势。通过改变光配向的工艺条件测试TFT特性的变化，发现完整的光配向工艺对TFT特性无明显影响。本文还分析了光配向形成的配向膜的低预倾角(约0.2°)对产品性能的影响，从结果可知，低预倾角下产品的对比度可达到1 500以上，与摩擦型产品对比提升了约50%。

在大世代线液晶面板厂，因产品切换便捷、产能高等优势，配向膜材料涂布多采用喷墨印刷方式。但随着高分辨率、无边框等技术升级，喷墨印刷方式面临的挑战也随之增加，产生了很多新的配向膜不良。本文研究了一种周边配向膜Mura，分析原因为阵列基板上的配向膜固化时，在基板周边过孔处出现堆积，造成周边显示区配向膜厚不均匀，导致显示区边缘形成暗线不良。文章从配向膜边界位置、预固化温度、预固化环境气压和配向膜膜厚4个方面进行分析实验，证明了外扩配向膜边界、降低预固化温度、降低预固化环境气压和降低配向膜膜厚，可以有效减轻配向膜在周边过孔处堆积，进而成功解决此不良，获得优异的显示品质。

目前, TFT-LCD行业已经趋于成熟。各大面板厂都在提升自身产品的竞争力：高分辨率、高色域、轻质化、窄边框化以及高对比度等等。配向膜作为LCD面板的主要构成起着重要的取向作用, 其印刷的质量对产品良率起很大影响。喷墨打印作为大世代线配向膜印刷方法被越来越广泛的应用, 但是其带来的印刷性不良也多种多样。本文重点介绍了阵列基板的设计对配向膜的影响。通过实验验证得出, 阵列基板深孔设计对配向膜扩散起到了阻碍扩散的不良影响。从此结论出发, 从配向膜印刷工艺和设计提出改善方案并取得了改善效果。

目前,LCD行业已经趋于成熟.各大面板企业都在提升自身产品的竞争力:高分辨率、高色域、轻质化、窄边框化以及高对比度等等.本文从聚酰亚胺取向层材料方面着手提高对比度进行了研究与阐述.研究过程中利用实验室与产线进行了实际测试,通过对比不同性质的取向膜材料所制作的平面电场宽视角(ADS)模式液晶面板,证明了配向能力越高的取向材料得到的面板对比度越高.高配向力的取向层可以使液晶分子的排列更加有序化,在常暗模式的FFS显示器中,初始位置的液晶分子预倾角越低,液晶面板的暗态越好,在亮态相同的情况下,对比度将会提高.

薄膜晶体管行液晶显示(TFTLCD)面板制造行业中，取向膜涂布方式主要有2种:一种为传统印刷方式辊式涂布法，另一种为新型印刷方式喷墨印刷法。本文通过对这2种印刷方式的比较，着重介绍了新型喷墨印刷法容易产生的三大主要不良(直线形不良、印刷头宽线形不良以及云状灰度不良)及产生原因。在对三大不良产生的原因进行详细的实验测试、数据分析和理论研究工作下, 通过工艺调整并结合设备科学管控， 最终使不良发生率大幅下降，极大地提高了产品的品质，并为今后新产品的开发及相关理论的研究提供了很好的基础。

利用mini-cell作为评价平台，从配向膜材料自身特性角度，对配向膜材料与面残影之间的关联性进行了综合研究。一方面，配向膜材料自身优异的稳定性有助于维持电压保持率(VHR); 另一方面，配向膜材料自身的低电阻率特性有助于存储电荷的释放，利于实现较低的残余电流(RDC)。而当配向膜材料的RDC和高低温间VHR变化值同时处于较低水平时，可以获得面残影水平较低的TFT-LCD模块。因此，利用mini-cell对配向膜材料进行评估，通过比较RDC以及ΔVHR数值，可以间接实现对TFT-LCD的残影结果评估，为实际生产中产品残影的改善提供了基础理论指导，具有重要的指导性作用。