针对基于数字微镜器件(DMD)的高动态成像系统在光学设计过程中由二次倾斜造成的畸变，建立了一套基于区域的系统畸变自校正模型。首先，根据像素级区域调光高动态系统中光路设计的特点，分析了畸变产生的原因。考虑不同种类畸变模型产生的原因及特点，结合系统自身的优势，建立了一种基于区域的畸变校正函数模型。为了解决在校正过程中某一点存在多次赋值或者未赋值的情况，采用逆推校正的方法逆向求解畸变参数，进行畸变校正。最后,利用数字微镜器件(DMD)自身投影标定模板的方法,实现了系统畸变的自校正设计。实验结果表明: 校正后的系统像元误差为0.87 pixel。与传统的畸变校正模型相比，该模型可以有效解决系统中的倾斜畸变、径向畸变以及偏心畸变，且畸变校正过程不依赖外部环境，校正过程快、可靠性高，满足了DMD高动态系统像素级调光的要求。