将普通光学显微镜的均匀照明替换为光场具有空间结构分布的照明，可为显微镜增添超分辨和光切片的新功能。结构光照明显微（SIM）技术与传统宽场光学显微镜具有良好的结构兼容性，继承了传统光学显微镜非侵入、低光毒性、低荧光漂白、快速成像的优点。其高时空分辨率和三维光切片能力非常适合活体细胞或组织的观测，受到生物医学和光学界的持续关注。快速产生高对比度、高频率的结构光场并进行快速相移和旋转调控是SIM的核心技术。近年来基于数字微镜器件（DMD）调制的SIM（DMD-SIM）发展迅速，它利用DMD高刷新率、高光通量、偏振不敏感的优势，克服了传统器件如物理光栅和液晶空间光调制器在调控速度上的缺点。本综述首先介绍了SIM超分辨和光切片的基本原理，然后着重阐述了DMD-SIM通过光投影和光干涉产生结构光照明及调控光场的方法，对当前的DMD-SIM研究进展进行了归纳评述，总结了DMD-SIM的优缺点，最后对DMD-SIM面临的挑战和发展趋势进行了展望。

为了提高纠缠光量子成像效率，本文采用双步符合计数法快速获取目标成像信息，降低纠缠光量子成像的时间开销。首先，利用透镜和波片组合对激光器产生的泵浦光进行调制，提高周期极化磷酸氧钛钾（PPKTP）晶体自发参量下转换的效率；然后，通过数字微镜器件（DMD）选取测距区域，构造单光子时间脉冲序列差值；其次，利用该差值完成局部符合计数以得到信号和参考光路的延时差；再次，通过控制DMD选取成像区域，对单光子时间脉冲序列进行修正，并利用修正后的序列完成全局符合计数；最后，将符合计数值与灰度值进行映射，得到目标的量子图像。此外，通过与经典量子成像结果相比较，分析了目标距离、测距区域大小和单像素曝光时间对成像结果的影响，同时搭建了实际的量子成像光路以验证本文方法的有效性。

偏振像差会影响离轴光学成像系统的偏振测量精度和偏振成像效果，有必要对其进行标定和补偿。基于三维偏振光线追迹，分析了含有数字微镜器件（DMD）的编码超分辨离轴光学成像系统在不同视场下的偏振像差，并提出一种在光路中接近DMD位置加入线性衰减器（LD）和相位延迟器（LR）进行偏振补偿的方法。经计算发现，DMD表面引入的最大二向衰减为1.43×10^-3，最大相位延迟为9.52×10^-3 rad，整体光学系统引入的最大二向衰减为2.32×10^-3，最大相位延迟为1.55×10^-2 rad，DMD引入的偏振像差占全系统的60%以上。对比了偏振补偿前后整体光学系统的偏振像差分布、琼斯瞳和偏振成像仿真效果，结果表明：布置合适的弱偏振器件进行补偿后，二向衰减和相位延迟均减小为补偿前的一半左右，琼斯矩阵接近单位阵，偏振成像中的串扰现象也明显减少。可见，DMD会引入较大的偏振像差，而在DMD附近的光路中使用LD和LR能够简单有效地进行偏振补偿。

作为常用显示器件，数字微镜器件(DMD)使用传统的脉冲宽度调制(PWM)显示方法受最小脉冲宽度限制，无法满足高帧频显示的需求。文章提出基于光源与DMD复合编码的高帧频显示技术，利用光源调制解决脉冲宽度调制导致的位平面显示时间随位平面等级指数增长的问题。通过构建包含驱动模块、光源和DMD的显示系统，采用低4位光源脉冲宽度调制与高4位DMD显示时间宽度调制相结合的方法，将8位灰度图像的显示帧频提高至2461Hz。

无掩模光刻技术具有无需物理掩模、成本低、适合大批量生产的优点，在微结构制作中得到了广泛应用。基于数字微镜器件（DMD）的无掩模数字光刻技术具有分辨率高、灵活性好、加工精度高等优势，成为近年来数字光刻领域的研究热点。综述了DMD数字光刻技术的研究进展，包括基于DMD的扫描光刻技术、步进式光刻技术以及灰阶光刻技术，介绍了该方法在集成电路、微光学、三维打印等领域的应用，并总结了目前DMD光刻技术存在的问题及其未来发展趋势。