激光与光电子学进展, 2018, 55 (3): 033101, 网络出版: 2018-09-10
基于原子层沉积的大曲率基底表面薄膜均匀性研究 下载: 1217次
Study of Film Uniformity on Large-Curvature Substrate Surface Based on Atomic Layer Deposition
薄膜 原子层沉积 流场分析 均匀性 大曲率基底 thin films atomic layer deposition flow-field analysis uniformity large-curvature substrate
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