红外与毫米波学报, 2020, 39 (1): 56, 网络出版: 2020-03-12  

基于65 nm标准CMOS工艺的3.0 THz 探测器

A 3.0 THz detector in 65 nm standard CMOS process
方桐 1,3刘力源 1,3,*刘朝阳 1,3冯鹏 1,3李媛媛 2,3刘俊岐 2,3刘剑 1,3吴南健 1,3
作者单位
1 State Key Laboratory of Superlattices and Microstructures, Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences, Beijing00083, China
2 Key Laboratory of Semiconductor Materials Science, Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences, Beijing100083, China
3 Center of Materials Science and Optoelectronics Engineering, University of Chinese Academy of Sciences, Beijing100049, China
补充材料

方桐, 刘力源, 刘朝阳, 冯鹏, 李媛媛, 刘俊岐, 刘剑, 吴南健. 基于65 nm标准CMOS工艺的3.0 THz 探测器[J]. 红外与毫米波学报, 2020, 39(1): 56. Tong FANG, Li-Yuan LIU, Zhao-Yang LIU, Peng FENG, Yuan-Yuan LI, Jun-Qi LIU, Jian LIU, Nan-Jian WU. A 3.0 THz detector in 65 nm standard CMOS process[J]. Journal of Infrared and Millimeter Waves, 2020, 39(1): 56.

引用该论文: TXT   |   EndNote

相关论文

加载中...

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!