改性剂对旋转法SiO<sub>2</sub>减反膜均匀性的影响

杨伟; 李海波; 张清华; 马红菊; 惠浩浩; 刘志超; 马平

强激光与粒子束, 2010, 22 (12): 2865, 网络出版: 2011-01-05

改性剂对旋转法SiO₂减反膜均匀性的影响

Effect of modifiers on uniformity of spin-coated sol-gel silica antireflective films

杨伟 ^*李海波张清华马红菊惠浩浩刘志超马平

作者单位

成都精密光学工程研究中心, 成都 610041

补充材料

杨伟, 李海波, 张清华, 马红菊, 惠浩浩, 刘志超, 马平. 改性剂对旋转法SiO₂减反膜均匀性的影响[J]. 强激光与粒子束, 2010, 22(12): 2865. Yang Wei, Li Haibo, Zhang Qinghua, Ma Hongju, Hui Haohao, Liu Zhichao, Ma Ping. Effect of modifiers on uniformity of spin-coated sol-gel silica antireflective films[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2010, 22(12): 2865.