制备铋靶的脉冲电镀工艺 | 强激光与粒子束 -- 中国光学期刊网

强激光与粒子束, 2011, 23 (2): 428, 网络出版: 2011-03-02

制备铋靶的脉冲电镀工艺

Pulse electroplating in bismuth target fabrication

张红强 ^*戴亚堂张欢夏姣

作者单位

西南科技大学四川省非金属复合与功能材料重点实验室－省部共建国家重点实验室培育基地, 四川绵阳 621010

铋靶脉冲电镀无氰镀液乙二胺四乙酸盐表面形貌 bismuth target pulse electroplating non-cyanide plating solution versenate surface topography

知识挖掘

相关论文

1. 激光增材制造CoCrFeNi高熵合金激光抛光工艺研究

2023年

2. 高抗激光损伤阈值光栅后处理抛光技术研究

2023年

3. 基于激光和表面加工的增减材复合制造

2023年

4. 镍基高温合金光束耦合纳秒激光铣削表面成型质量研究

2023年

5. 用于表面形貌测量的扫描白光干涉技术进展

2023年

6. 碳源入射角对超薄四面体非晶碳膜结构和性能的影响

2022年

7. 扬子克拉通西部金刚石的表面形貌特征及其振动光谱研究

2022年

8. 蓝宝石衬底表面形貌检测和评价系统

2021年

9. 碳化硅/碳化钨硬面密封摩擦副的摩擦磨损性能和机理研究

2019年

10. 基于物体表面形貌的单相机视觉位姿测量方法

2018年

本文相似领域研究进展，

知识服务

本文主要研究领域论文发表情况：

207篇

surface topography

46篇

1篇

1篇

1篇

non-cyanide plating solution

1篇

pulse electroplating

1篇

1篇

1篇

乙二胺四乙酸盐

1篇

本文研究领域论文发表情况（统计图）：

张红强, 戴亚堂, 张欢, 夏姣. 制备铋靶的脉冲电镀工艺[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(2): 428. Zhang Hongqiang, Dai Yatang, Zhang Huan, Xia Jiao. Pulse electroplating in bismuth target fabrication[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23(2): 428.

论文摘要 Full Text 图 & 表补充材料基本信息知识挖掘 Metrics PDF全文参考文献 & 引文

引用该论文： TXT | EndNote

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务，点击此处了解我们的隐私策略。如您需继续使用本网站，请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。

您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!

快速查询高级查询

最近搜索：

大家在搜：人工智能图像处理光子

热门搜索：机器视觉光通信光纤传感器