半导体光电, 2018, 39 (2): 216, 网络出版: 2018-05-29
ICP刻蚀对光刻胶掩模及刻蚀图形侧壁的影响
Effect of ICP Etching on the Photoresist Mask and the Sidewall of the Etching Figure
ICP刻蚀 光刻胶碳化变性 刻蚀图形侧壁 ICP etching Cl2/Ar Cl2/Ar Cl2/BCl3 Cl2/BCl3 carbonized denaturation of photoresist sidewalls
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