光学学报, 2011, 31 (12): 1222007, 网络出版: 2011-11-21
背向曝光表面等离子体激元干涉光刻系统中银层超透镜的优化设计
Optimized Design of Silver Superlens for the Surface Plasmon Polaritons Interference Lithography Based on Backside-Exposure Technique
基本信息
DOI: | 10.3788/aos201131.1222007 |
中图分类号: | O436.1 |
栏目: | 光学设计与制造 |
项目基金: | 乐山师范学院资助项目(Z1007)、四川省教育厅科研项目(11ZB133)和乐山市科技局重点项目(10GZD022)资助课题。 |
收稿日期: | 2011-07-01 |
修改稿日期: | 2011-08-11 |
网络出版日期: | 2011-11-21 |
通讯作者: | 肖啸 (xiao_scu@sohu.com) |
备注: | -- |
肖啸, 张志友, 何明阳, 肖志刚, 许德富. 背向曝光表面等离子体激元干涉光刻系统中银层超透镜的优化设计[J]. 光学学报, 2011, 31(12): 1222007. Xiao Xiao, Zhang Zhiyou, He Mingyang, Xiao Zhigang, Xu Defu. Optimized Design of Silver Superlens for the Surface Plasmon Polaritons Interference Lithography Based on Backside-Exposure Technique[J]. Acta Optica Sinica, 2011, 31(12): 1222007.