光学学报, 2011, 31 (12): 1222007, 网络出版: 2011-11-21
背向曝光表面等离子体激元干涉光刻系统中银层超透镜的优化设计
Optimized Design of Silver Superlens for the Surface Plasmon Polaritons Interference Lithography Based on Backside-Exposure Technique
表面光学 表面等离波子激元干涉光刻 背向曝光 银层超透镜 surface optics surface plasmon polaritons interference lithograph backside exposure technique silver superlens
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