作者单位
摘要
1 中国科学院半导体研究所 中国科学院半导体材料科学重点实验室, 低维半导体材料与器件北京市重点实验室, 北京 100083
2 内蒙古日月太阳能科技有限公司, 呼和浩特 010111
p型单晶硅太阳电池在EL检测过程中, 部分电池片出现黑斑现象。结合X射线能谱分析(EDS), 对黑斑片与正常片进行对比分析, 发现黑斑片电池与正常电池片大部分表面的成分相同, 排除了镀膜及丝网印刷过程中产生黑斑的可能。利用X射线荧光光谱分析(XRF)测试了同一电池片的黑斑区域与正常区域, 发现黑斑处Ca含量较大, 并出现Sr、Ge和S等杂质元素。将6个档位的电池片制备成2cm×2cm的电池样片, 利用光生诱导电流测量了每个电池的外量子效率(EQE)。在460~1000nm波长范围内, 同一电池片黑斑处与正常处的EQE相差较大, 说明黑斑的出现与原生硅片缺陷无关, 应归结于电池片生产过程中引入的杂质缺陷。给出了杂质引入的原因以及解决途径, 从而显著减小了黑斑片产生的几率。
EL测试 黑斑 能谱分析 X射线荧光光谱 外量子效率 EL testing black spot EDS XRF EQE 
半导体光电
2017, 38(1): 21
作者单位
摘要
中国科学院半导体研究所 材料科学重点实验室, 北京100083
对不同条件下制备的锑化镓抛光晶片表面进行了TOF-SIMS测试比较。结果表明使用体积比为5∶1的HCl与CH3COOH的混合溶液清洗腐蚀(100)GaSb晶片表面, 可以有效地去除金属离子、含S离子和大部分有机物, 而使用 (NH4)2S/(NH4)2SO4混合溶液方法钝化表面,可以使表面大部分Ga和Sb元素硫化, 降低了表面态密度。分析比较了清洗和钝化工艺对晶片表面化学成分的影响。
锑化镓 表面氧化 钝化 GaSb TOF-SIMS TOF-SIMS surface oxidation passivation 
半导体光电
2016, 37(1): 55
作者单位
摘要
中国科学院半导体研究所 材料科学重点实验室,北京100083
对相同条件下制备的不同晶向的锑化镓抛光晶片表面化学组分进行了XPS测试比较,结果表明(110)GaSb晶片表面的氧化程度最为严重,表面极为粗糙;有极性的(111)GaSb晶面由于Ga—Sb价键存在于衬底内部,反而氧化程度较低,表面较光滑。分析比较了GaSb晶面表面化学组分与形貌的关系。
锑化镓 表面氧化 表面形貌 GaSb XPS XPS surface oxidation surface morphology 
半导体光电
2015, 36(6): 922

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