中国科学技术大学 国家同步辐射实验室, 合肥 230029
介绍了数字编码光栅尺的结构设计并提出一种制作方法.采用紫外对准光刻、全息光刻及湿法腐蚀结合在(100)硅片上制作母光栅尺, 并以具有紫外固化特性的聚氨酯丙烯酸酯为材料, 将母光栅尺复制到硬基底上.实验表明, 该工艺可重复性高, 复制光栅尺的衍射效率高于母光栅尺的90%, 并能承受航空环境－55℃~70℃的高低温冲击.光栅尺的制作准确度满足传感器的要求, 信号响应准确率100%.该方法可对具有准确度高、图形复杂、工作环境恶劣等特点的微纳米结构的制作提供借鉴.
光学位移传感器 编码光栅 复制技术 紫外光刻 全息光刻 光传操纵系统 Opticaldisplacement sensor Encoding grating Replication technique UV lithography Holographic lithography Aircraft control systems
