为了充分掌握磁流变抛光中磁场强度、浸入深度、抛光轮转速、磁流变液水分含量等工艺参数对抛光结果的影响规律,以期提高元件的面形精度和表面的质量，在研究了磁流变抛光材料的去除数学模型的基础上,结合实验室的PKC100P1型抛光设备,对上述的关键工艺参数分别进行了研究，设置了一系列的实验参数,进行了详细的实验探索，分析了单因素条件下材料的去除量以及元件表面质量同关键工艺参数的内在联系，得出了相应影响关系曲线。从关系曲线表明：工艺参数对抛光斑的去除效率以及被加工元件表面质量存在着明显的影响规律，掌握这些影响关系就能用于分析和优化磁流变加工的结果，为高精度光学表面的加工提供可靠的保障，同时实验的结果也很好地验证了磁流变抛光材料去除理论的正确性。

提出用弹性球状小磨头以旋进方式加工WolterⅠ型反射镜的柱面内表面，根据Preston方程、Hertz接触理论和掠入射反射镜特殊的柱面结构，推导出基于旋偏动模式的磨头去除函数理论模型。实验结果表明，理论去除函数曲线与实验曲线的均方根距离偏差σ为0.101 22 μm，偏差比值κ为9.8%。分析验证了不同旋偏角对去除函数的影响并与理论模拟结果进行了比较。结果显示, 随着旋偏角的增大，最大去除值位置逐渐向y轴正方向偏移。不同的旋偏角，最大理论去除深度与最大实际去除深度的均方根偏差为0.201 μm；最大理论去除位置与最大实际去除位置的均方根偏差为0.255 mm。旋偏角越大，材料去除量就越多，去除函数也越显对称。实验结果很好地验证了去除函数理论模型的准确性，该模型可指导WolterⅠ型掠入射反射镜的加工，实现确定性材料去除。

Theoretical and experimental research on the deconvolution algorithm of dwell time in the technology of computer controlled optical surfacing (CCOS) formation is made to get an ultra-smooth surface of space optical element. Based on the Preston equation, the convolution model of CCOS is deduced. Considering the morbidity problem of deconvolution algorithm and the actual situation of CCOS technology, the weighting spatial deconvolution algorithm is presented based on the non-periodic matrix model, which avoids solving morbidity resulting from the noise induced by measurement error. The discrete convolution equation is solved using conjugate gradient iterative method and the workload of iterative calculation in spatial domain is reduced effectively. Considering the edge effect of convolution algorithm, the method adopts a marginal factor to control the edge precision and attains a good effect. The simulated processing test shows that the convergence ratio of processed surface shape error reaches 80%. This algorithm is further verified through an experiment on a numerical control bonnet polishing machine, and an ultra-smooth glass surface with the root-mean-square (RMS) error of 0.0088 \mum is achieved. The simulation and experimental results indicate that this algorithm is steady, convergent, and precise, and it can satisfy the solving requirement of actual dwell time.

为得到空间光学元件超光滑表面,对超精密气囊抛光方法的去除特性进行了理论和实验研究。以Preston方程为基础,应用运动学原理建立了气囊抛光“进动”运动的材料去除模型,针对抛光气囊工具的物理特性,按照Hertz接触理论对去除模型进行了修正; 利用计算机仿真的方法,分析了几个主要工艺参数对“进动”抛光运动去除特性的影响规律,并在超精密光学数控抛光机上进行了正交实验; 仿真和实验结果吻合较好,总结得到4点气囊抛光方法中重要的结论,给出了“进动”角与压缩量的取值范围,以此得到了面型精度RMS值为0.024 λ(λ＝0.6328 μm)的超光滑表面,为开展光学元件气囊抛光工艺研究提供依据。