量子点色转换是实现新型显示器件全彩化和提升显示色域的一种有效策略，但量子点环境稳定性差限制了其应用和发展。本文基于具有自限制表面反应特性的原子层沉积工艺，探索了在量子点色彩转换膜上原位生长致密的氧化铝封装膜，该封装方法将具有高光透过率、高致密的材料与贴合紧密的工艺有效结合。仿真结果表明，氧化铝封装的量子点色彩转换膜的出光强度达到了未封装的94.9%。并且，实验结果也表明，氧化铝封装基板的光透过率是空白基板的96.4%，而且封装后的量子点色彩转换膜在高温高湿（85 ℃，85% RH）环境中工作240 h后，光转换效率仍然保持初始的60.8%，比未封装的光转换效率（11.43%）提升了63.9%。该封装方法实现了在量子点色彩转换膜出光强度不受影响的同时，有效提升量子点色彩转换膜的稳定性，为量子点色彩转换膜的稳定性提升提供了一条可行思路，同时扩展了原子层沉积工艺在光电显示领域的应用，具有重要的科学意义和应用前景。

偏振片是一重要的光学器件，通常实验室所用偏振片的偏振化方向未知。为了得到精确的偏振片的偏振化方向，提出了一种基于布儒斯特定律测定偏振片偏振化方向的方法，并将已测定偏振化方向的偏振片置于液晶光电测试系统的光路中，测得透光量随偏振片偏振化方向与液晶盒前摩擦取向方向夹角的变化关系。实验结果表明：偏振片偏振化方向和液晶盒前摩擦取向方向夹角为45°时，透光量达到最大，并以此角测试了透光量随施加电压、时间的变化且给予了理论分析，验证了基于布儒斯特定律可以精确测定偏振片的偏振化方向，从而依据此研究，搭建了一个物理实验光路来测定未知偏振片的偏振化方向，并通过已知的光电测试系统给予验证，便于偏振片在需要精确测定其偏振化方向的领域得到更好的应用。

为了探明约束成型室基底微观孔隙特征对固化光源传播特性的影响规律，从而对光固化成型精度进行分析和预测，采用时域有限差分软件对成型室约束基底引入微孔特征条件下的透光性及在固化区光能量分布特性进行了数值模拟，并通过实验对模拟结果进行了验证.结果表明，约束基底引入微孔的形状、尺寸以及周期等微观几何特征影响基底的透光性及其透过基底在成型区的光强分布；相对于基底微孔形状，其尺寸和周期的影响更显著，减小微孔尺寸和周期有利于透光性以及光强在成型区分布的均匀性；微孔直径小于半波长、微孔边缘间距与微孔直径的比值小于1：1时可以显著减小微孔的负面影响；微孔直径远大于半波长时，基底上的微孔将在成型零件表面形成不期望的附加特征，从而影响成型精度.研究结果可以为基底制备提供工艺改进的方向和理论依据.