高分子长余辉发光材料具有无定态结构、可加工性能好、发光寿命长、成本低廉等优点, 对拓展纯有机长余辉发光材料的应用具有重要意义。为了实现高分子发光材料的长余辉发射, 当前主要是利用杂原子或者重原子的自旋轨道耦合作用, 提高单/三线态激子间的系间窜越能力; 高分子基质中的氢键、卤键、离子键等分子内和分子间相互作用为磷光基团提供刚性环境, 抑制其三线态激子的非辐射跃迁和猝灭。基于此, 本文综述了近年来高分子长余辉发光材料的研究进展, 以及在未来发展过程中面临的机遇与挑战。

为了研究表面微结构成型质量的影响因素, 设计并制备了3种深宽比的微正四棱柱结构, 并对聚合物材料、微结构深宽比、脱模工艺参数、镍模芯表面抗黏处理等影响因素进行注射成型脱模实验研究。首先, 采用PP, COC, PMMA等材料研究了获得目标深宽比微结构的难易程度。以PP材料为例分析了在3种深宽比下的脱模成型质量, 分别从保压压力、脱模温度两方面讨论对脱模变形的影响。最后, 分析比较镍模芯经过抗黏处理前后成型的微结构形貌尺寸。PP能够顺利获得近似目标深宽比的微结构, COC脱模后微结构发生折断变形, 高度平均只有17.0 μm左右, PMMA成型后微结构也发生断裂且黏附在模芯微孔中。脱模变形随着深宽比的增加而趋于严重, 且当深宽比较大时, 微结构易发生倾斜变形。提高保压压力, 微结构平均高度从约25.0 μm增加到约87.0 μm, 但当保压压力过高时微结构出现翘曲变形; 随着脱模温度的升高, 保留完整的微棱柱比例分别为55%, 60%, 30%, 10%。镍模芯经过抗黏处理后所成型微结构的尺寸更加接近目标值。COC由于本身断裂伸长率较小而具有较大的脆性, 而PMMA本身的表面能较大则具有较强的黏附性。深宽比增加使得脱模时微结构顶部黏附力与后期摩擦力均会增加。合理增加保压压力、降低脱模温度与镍模芯经过抗黏处理均能有效提高脱模成型质量, 但过高的保压压力会造成微结构内应力增加, 产生翘曲。

为改善普通马赫-曾德尔干涉仪滤波器的滤波性能，将微环谐振器与马赫-曾德尔干涉仪相结合，设计出一种新型滤波器结构。利用信号流程图理论推导出滤波器传递函数，并对其输出端口透射谱进行仿真分析。仿真结果表明：当微环谐振器周长(L1和L2)与马赫-曾德尔干涉仪上下臂臂长差Δd满足如下关系：L1=2L2=Δd时，滤波器输出光谱顶部平坦，边沿陡峭，形状类似于“方形”。通过数值计算，取微环谐振器周长L1=1 510 μm时，滤波器的自由光谱范围为2 nm、3 dB带宽为1.15 nm、精细度达到1.74、品质因子为1 347.82。文章提出的微环辅助马赫-曾德尔干涉仪型滤波器的滤波性能与普通马赫-曾德尔干涉仪滤波器相比有了明显改善。选择光电特性优良的聚合物材料设计微环谐振器和马赫-曾德尔干涉仪，当施加在滤波器上的电压发生变化时，滤波器输出光谱向右漂移，可以满足不同的滤波需求。

有机聚合物脊形光波导的色散特性对聚合物光子学器件性能具有重要影响。本文利用标量变分理论计算脊形光波导的有效折射率, 其用到的近似光场分布运用变分有效折射率法获得。考虑折射率分布的横向变化, 基于导模满足的矢量波动方程, 利用微扰法对标量变分理论所得有效折射率进行偏振修正, 求得精度更高的色散特性。对聚合物多模脊形光波导基模和高阶模的色散特性进行分析, 研究了波导结构参数对色散特性的影响, 分析了单模波导TM、TE基模的偏振色散特性。研究结果表明, 运用本征方程分析TM模的色散特性误差大, 必须加以修正; 而对于TE模, 其误差相对较小。

简单介绍了红外光谱法的研究进展、制样方法及其在高分子材料领域的应用情况。该 方法具有快速、方便等优点，因而在高分子材料研究中发挥着重要作用。展望了红外技 术在高分子材料领域中的应用前景。

成一种σ-π共轭聚合物poly(disilanylene-2,2′-bipyridine-5,5′-diyl)ruthenium(PDSBpy-Ru),双光束耦合(2BC)、四波混频(DFWM)及场致双折射实验等证明了该有机物的光导及光折变特性.由于铷化合物的金属与配位体间(MLCT)电荷转移特性,使得该聚合物的光折变特性得以增强.实验测得双光束耦合增益系数为30 cm-1,四波混频实验测得光栅衍射率约为10%.