针对目前基于数字微镜（Digital Micromirror Device，DMD）的光谱模拟中，光谱模拟单元具有不同偏态性质且存在非线性调制等特点，提出了一种适用于多种色温调制的基于模糊PID控制的恒星光谱模拟方法。构造了DMD工作矩阵、光谱调制权重矩阵、光谱分布函数矩阵以及目标光谱矩阵，建立了基于DMD的光谱模拟数学模型；然后，研究了基于遗传算法优化BP神经网络的光谱分布函数拟合算法，在400~800 nm的峰值波长内实现了光谱分布函数拟合；提出了一种基于模糊PID控制的光谱模拟算法，选择模糊集合与隶属度函数，制定了模糊推理以及解模糊化规则。仿真分析了模糊PID控制器性能，结果表明与PID控制相比，模糊PID控制的超调量减小90.7%，调节时间缩短了69.4%。最后，实验验证了3 000~11 000 K色温光谱分布曲线的模拟精度，结果表明：光谱模拟误差优于±4.21%；相较于PID控制，模糊PID控制在3 000，6 500以及11 000 K色温的最大光谱模拟精度分别提高了2.31倍，1.71倍和2.02倍。所提出的方法可以进一步提升光谱模拟精度，为高精度星敏感器的地面标定提供理论与技术基础。

提高射流稳定性实现精确微图案喷印与微器件集成制造是电纺直写技术应用研究的重点。引入模糊控制器构建闭环控制系统突破带电射流干扰参数多、控制模型缺乏的不足，研究了射流行为、纺丝电流与喷印微结构尺寸的演变规律；喷印制造了直线与环形两种光栅编码器，可分别应用于线速度和角速度的检测，构建了速度传感检测系统分别测试两种光栅编码器。实验结果表明，闭环系统可以有效提高射流的稳定性和喷印结构的均匀性，直写微纳结构的线宽分布区间由40~140 µm减少到50~100 µm；分析了速度传感检测系统的测试结果，直线光栅编码器对线速度的测量范围为0~100 mm/s，误差优于0.87%，环形光栅编码器对角速度的测量范围为0~100 （°）/s，误差优于0.74%。模糊闭环控制极大提高了电纺直写技术稳定性和微器件集成制造精度，有助于促进微纳喷印技术的产业化应用。