1 上海理工大学 材料科学与工程学院，上海 200093
2 中国科学院上海技术物理研究所 红外物理国家重点实验室，上海 200083
在YSZ（100）衬底上，采用脉冲激光沉积法在500 ℃至700 ℃的不同沉积温度下生长出尖晶石结构的Mn1.56Co0.96Ni0.48O4（MCNO）薄膜.由于沉积温度是制备高质量薄膜的重要因素，因此本文研究了MCNO薄膜结构、电学和磁学性能随沉积温度的变化.通过对X射线衍射图和原子力显微镜图像的分析，发现MCNO薄膜的结晶与沉积温度有很大关系.随着沉积温度的升高，MCNO薄膜的电阻率呈V型变化，其导电过程可以用小极化子跳跃机理来描述.同时，随温度变化的磁化曲线表明所有样品都显示出从铁磁性到顺磁性的转变，且沉积温度为600 ℃的MCNO薄膜具有216 K的高居里温度.以上研究结果表明，在600 ℃沉积的MCNO薄膜具有适用于热敏电阻器件和多功能异质结所需的良好性能.
薄膜技术 脉冲激光沉积 沉积温度 磁学性能 thin film technology pulsed laser deposition deposition temperature magnetic properties
采用真空热阻蒸方式在CMOS图像传感器感光面上镀制不同厚度性比价高的Lumogen薄膜.研究发现不同Lumogen薄膜厚度的CMOS传感器的暗电流噪声未发生明显变化，说明真空热蒸发方式对互补金属氧化物半导体器件本身未造成热损伤; 光响应非均匀度随膜厚增加而增大; 动态范围却随膜厚增加而减小; 量子效率随膜厚增加呈现先增大后减小.同时，研究发现敏化膜层最佳厚度为389 nm，此时CMOS传感器的量子效率提高了10%，且光响应非均匀度，动态范围均在相对较好的范围内.
传感器技术 薄膜技术 紫外敏化 互补金属氧化物半导体传感器 荧光材料 量子效率 动态范围 Sensor technology Thin film technology Ultraviolet sensitizing Complementary Metal Oxide Semiconductor(CMOS) Quantum efficiency Dynamic range
1 西安工业大学光电工程学院, 陕西 西安 710021
2 微光夜视技术重点实验室, 陕西 西安 710065
为了研究蓝宝石/SiO2/AlN/GaN光阴极组件外延片热应力分布及影响因素, 以直径 d为φ40 mm的 GaN外延片为研究对象, 利用有限元分析法对其表面热应力分布进行了理论计算和仿真, 验证了仿真模型的合理性。分析了外延片径向和厚度方向的应力分布, 结果显示: 在 1200℃的生长温度下, 径向区域内的热应力分布比较均匀, 热应力变化范围为±1.38%; 生长温度在 400℃到 1200℃范围内, 外延层表面应力与生长温度呈近似正比关系。分析了外延片生长温度、蓝宝石衬底和 SiO2、AlN过渡层厚度对表面热应力的影响。研究成果可为该类外延片生长工艺研究和低应力外延片的筛选标准制定提供借鉴。
薄膜技术 热应力 氮化镓 有限元 仿真 film technology thermal sreess GaN finite element analysis simulation
中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院强激光材料重点实验室, 上海 201800
对光学薄膜的性能及制备技术等方面进行了简要的评述，并指出随着科学技术的进步，光学薄膜及相关技术不论从广度还是深度来看都得到了显著发展。
薄膜 薄膜技术 制备 检测 监控
1 江苏大学机械工程学院, 江苏 镇江 212013
2 成都工具研究所, 四川 成都 610056
薄膜-基体界面结合性能是直接关系到膜基体系最终使用性能和可靠性的关键因素和首要指标.在分析界面结合强度划痕试验法和激光层裂法的研究与应用现状的基础上,提出了界面结合强度红外激光划痕和远紫外线激光划痕测量新方法,并分析了其技术优势.最后研究了激光划痕机理和相关的界面结合状态诊析技术.
薄膜技术 界面结合强度 划痕试验法 激光层裂法
中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心, 上海 201800
193 nm光学薄膜是100 nm步进扫描光刻机系统中主要用到的光学薄膜。分析了膜料光学常数的不确定性、高折射率膜材料消光系数、水吸收以及膜层表面粗糙度对薄膜光学性能的影响。结果表明,要镀制出反射率大于98.5%的高反膜,必须将高折射率材料的消光系数k控制在0.0034以内,同时膜层表面的粗糙度σ控制在1 nm以内。膜层性能同时还受其使用环境中水气含量及其水气中杂质含量的影响,要减少膜层水吸收的影响,就必须提高薄膜的致密度,采用离子成膜技术,或者改变膜层的使用环境。在考虑相关因素的前提下,设计了在光刻机曝光系统中主要用到的增透膜、高反膜,并分析了其实际性能与设计结果存在差别的原因。
薄膜技术 193 nm光学薄膜 光刻机 消光系数 水吸收 表面粗糙度
华中科技大学激光技术国家重点实验室,武汉,430074
脉冲激光沉积薄膜是近年来发展起来的使用范围最广、最有希望的制膜技术.陈述了其原理、特点、研究方法,总结了超快脉冲激光、脉冲激光真空弧、双光束脉冲激光沉积等最新的PLD薄膜制备技术研究进展.
超快脉冲激光沉积 双光束脉冲激光沉积 脉冲激光真空弧薄膜制备 薄膜技术
1 华中科技大学光电子工程系, 湖北 武汉 430074
2 华中科技大学激光技术国家重点实验室, 湖北 武汉 430074
3 华中科技大学图像识别与人工智能教育部重点实验室, 湖北 武汉 430074
采用一种新工艺在Si和Si3N4衬底上制备了性能优良的氧化钒薄膜,并对其微观结构和光电特性进行了研究。测试结果表明采用新工艺所制备的氧化钒薄膜在相变前后电阻率变化达到3个数量级,红外透过率在相变前后改变达到60%。
薄膜技术 氧化钒薄膜 温度相变特性 光电特性 微光开关
