光学学报, 2018, 38 (9): 0912002, 网络出版: 2019-05-09
浸没式光刻机对焦控制技术研究 
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Focus Control Technology in Immersion Lithography
基本信息
| DOI: | 10.3788/AOS201838.0912002 |
| 中图分类号: | O436 |
| 栏目: | 仪器，测量与计量 |
| 项目基金: | 国家科技重大专项（2017ZX02101006-003）、 |
| 收稿日期: | 2018-02-26 |
| 修改稿日期: | 2018-03-28 |
| 网络出版日期: | 2019-05-09 |
| 通讯作者: | |
| 备注: | -- |
段晨, 宗明成, 范伟, 孟璐璐. 浸没式光刻机对焦控制技术研究[J]. 光学学报, 2018, 38(9): 0912002. Chen Duan, Mingcheng Zong, Wei Fan, Lulu Meng. Focus Control Technology in Immersion Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2018, 38(9): 0912002.
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