浸没式光刻机对焦控制技术研究下载： 1353次 | 光学学报 -- 中国光学期刊网

光学学报, 2018, 38 (9): 0912002, 网络出版: 2019-05-09

浸没式光刻机对焦控制技术研究下载： 1353次

Focus Control Technology in Immersion Lithography

段晨 ^1,2,3,*宗明成 ^1,2,3,*范伟 ^1,2,3孟璐璐 ^1,3

作者单位

¹ 中国科学院微电子研究所, 北京100029

² 中国科学院大学, 北京 100049

³ 中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室, 北京 100029

光学设计浸没光刻对焦控制误差集成电路 optical design immersion lithography focus control error integrated circuit

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